知识 高温箱式炉在微流控芯片封装中如何应用?卓越的热熔合粘接
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 3 周前

高温箱式炉在微流控芯片封装中如何应用?卓越的热熔合粘接


高温箱式炉用于执行热熔合粘接,这是永久密封玻璃微流控芯片的关键工艺。通过在特定温度下(例如 630 °C)长时间保持,炉子促进了两个玻璃晶圆在原子层面的融合。此过程会产生一个无缝的整体设备,无需额外材料即可将各层固定在一起。

通过消除化学粘合剂,这种基于炉子的技术可确保通道绝对纯净,并产生足够牢固的粘合,能够承受高达 148 bar 的超高压力。

热熔合粘接的原理

实现原子融合

箱式炉在此应用中的核心功能是将玻璃晶圆加热到精确的转变温度。在约 630 °C 时,玻璃表面会软化到足以在原子层面相互作用的程度。

创建无缝界面

由于热量在较长时间内均匀施加,两个玻璃层之间的界面会消失。结果是形成了一个熔合粘合,两个晶圆有效地成为一块玻璃。

关键性能优势

保持通道纯净

使用高温炉的一个主要优点是消除了化学粘合剂。传统的胶水会渗入微通道,污染敏感的生物或化学样品。

确保结构完整性

炉式粘接产生的密封比粘合剂或阳极粘接强得多。由此产生的芯片具有在超高压力下运行所需的结构完整性,具体测试可达 148 bar。

操作注意事项和权衡

高热负荷

虽然有效,但此过程会将整个芯片暴露在 630 °C 的高温下。这种极端环境使得在粘接步骤之前无法包含对温度敏感的电极或生物涂层。

工艺时长

参考资料表明,必须将温度保持“较长时间”。这意味着与紫外固化等快速粘接技术相比,产量较低,因此是追求质量而非速度的选择。

将工艺与您的项目目标相结合

为了确定基于炉子的熔合粘接是否适合您的微流控封装,请考虑您的具体性能要求。

  • 如果您的主要关注点是分析纯度:依靠此方法来创建无粘合剂污染物的化学惰性环境。
  • 如果您的主要关注点是高压微流控:选择热熔合,以确保设备能够承受高达 148 bar 的内部压力而不会分层。

通过利用箱式炉的持续加热,您可以将独立的玻璃晶圆转化为一个单一、耐用的组件,为严苛的实验条件做好准备。

总结表:

特性 热熔合粘接(箱式炉) 替代方案(粘合剂/紫外线)
粘接机制 约 630 °C 下的原子级融合 化学粘合剂或紫外线树脂
化学纯度 绝对纯净;无可浸出污染物 存在胶水浸出/污染风险
压力限制 高(测试高达 148 bar) 中等到低
耐用性 整体式(单块玻璃) 多层,存在界面风险
最佳用途 高压和超纯分析 快速原型制作和低压应用

通过 KINTEK Precision 提升您的微流控研究水平

在您的实验室实现无与伦比的结构完整性和分析纯度。KINTEK 专注于高性能实验室设备,包括专为精确热熔合粘接设计的先进高温箱式炉和马弗炉。无论您是设计高压微流控设备还是需要化学惰性环境,我们的系统都能提供原子级玻璃融合所需的均匀热量控制。

除了炉子技术,我们还提供全面的高温高压反应器、破碎和研磨系统以及精密液压机,以满足材料科学和电池研究的严苛应用需求。

准备优化您的粘接工艺了吗? 立即联系 KINTEK,与我们的专家一起为您的玻璃晶圆制造选择完美的热解决方案。

参考文献

  1. Karolina Svensson, Klas Hjort. Thermally controlled microfluidic back pressure regulator. DOI: 10.1038/s41598-021-04320-6

本文还参考了以下技术资料 Kintek Solution 知识库 .

相关产品

大家还在问

相关产品

1400℃ 实验室马弗炉

1400℃ 实验室马弗炉

KT-14M 马弗炉可精确控制高达 1500℃ 的高温。配备智能触摸屏控制器和先进的隔热材料。

1800℃ 实验室马弗炉

1800℃ 实验室马弗炉

KT-18 马弗炉采用日本AL2O3多晶纤维和硅钼棒加热元件,最高温度可达1900℃,配备PID温控和7英寸智能触摸屏。结构紧凑,热损失低,能效高。具备安全联锁系统和多种功能。

1700℃ 实验室氧化铝管高温管式炉

1700℃ 实验室氧化铝管高温管式炉

正在寻找高温管式炉?看看我们的 1700℃ 氧化铝管管式炉。非常适合高达 1700 摄氏度的研究和工业应用。

1400℃ 氧化铝管实验室高温管式炉

1400℃ 氧化铝管实验室高温管式炉

正在寻找用于高温应用的管式炉?我们的带氧化铝管的 1400℃ 管式炉非常适合研究和工业用途。

1200℃ 分体管式炉 石英管实验室管式炉

1200℃ 分体管式炉 石英管实验室管式炉

KT-TF12 分体管式炉:高纯度隔热,嵌入式加热丝线圈,最高温度 1200°C。广泛用于新材料和化学气相沉积。

实验室石英管炉管式RTP快速退火炉

实验室石英管炉管式RTP快速退火炉

使用我们的RTP快速加热管式炉,实现闪电般的快速加热。专为精确、高速的加热和冷却设计,配有方便的滑动导轨和TFT触摸屏控制器。立即订购,实现理想的热处理!

实验室马弗炉 升降底座马弗炉

实验室马弗炉 升降底座马弗炉

使用我们的升降底座马弗炉,高效生产具有优异温度均匀性的批次。具有两个电动升降台和高达 1600℃ 的先进温度控制。

多区实验室石英管炉管式炉

多区实验室石英管炉管式炉

使用我们的多区管式炉体验精确高效的热测试。独立的加热区和温度传感器可实现可控的高温梯度加热场。立即订购,进行先进的热分析!

钼真空热处理炉

钼真空热处理炉

了解带热屏蔽绝缘的高配置钼真空炉的优势。非常适合用于蓝宝石晶体生长和热处理等高纯度真空环境。

碳材料石墨化炉石墨真空炉底部出料石墨化炉

碳材料石墨化炉石墨真空炉底部出料石墨化炉

碳材料底部出料石墨化炉,最高温度3100℃的超高温炉,适用于碳棒、炭块的石墨化和烧结。立式设计,底部出料,进出料方便,温场均匀度高,能耗低,稳定性好,液压升降系统,装卸方便。

卧式高温石墨真空石墨化炉

卧式高温石墨真空石墨化炉

卧式石墨化炉:这类炉子采用卧式设计,加热元件水平放置,能够对样品进行均匀加热。它非常适合需要精确温度控制和均匀性的较大或笨重样品的石墨化处理。

2200 ℃ 石墨真空热处理炉

2200 ℃ 石墨真空热处理炉

了解 KT-VG 石墨真空炉的强大功能——最高工作温度可达 2200℃,非常适合各种材料的真空烧结。立即了解更多。

超高温石墨真空石墨化炉

超高温石墨真空石墨化炉

超高温石墨化炉在真空或惰性气体环境中利用中频感应加热。感应线圈产生交变磁场,在石墨坩埚中感应出涡流,使其升温并向工件辐射热量,从而达到所需温度。该炉主要用于碳材料、碳纤维材料及其他复合材料的石墨化和烧结。

立式高温石墨真空石墨化炉

立式高温石墨真空石墨化炉

立式高温石墨化炉,用于碳材料在3100℃以下进行碳化和石墨化。适用于碳纤维丝等材料在碳环境下烧结的成型石墨化。应用于冶金、电子和航空航天领域,用于生产电极和坩埚等高质量石墨产品。

2200 ℃ 钨真空热处理及烧结炉

2200 ℃ 钨真空热处理及烧结炉

体验我们钨真空炉的终极耐火金属炉。可达 2200℃,非常适合烧结先进陶瓷和耐火金属。立即订购,获得高质量的成果。

石墨真空连续石墨化炉

石墨真空连续石墨化炉

高温石墨化炉是碳材料石墨化处理的专业设备,是生产优质石墨制品的关键设备。它具有高温、高效、加热均匀等特点,适用于各种高温处理和石墨化处理。广泛应用于冶金、电子、航空航天等行业。

真空热处理烧结钎焊炉

真空热处理烧结钎焊炉

真空钎焊炉是一种用于钎焊的工业炉,钎焊是一种金属加工工艺,通过使用熔点低于母材的填充金属来连接两块金属。真空钎焊炉通常用于需要牢固、清洁接头的优质应用。

小型真空热处理及钨丝烧结炉

小型真空热处理及钨丝烧结炉

小型真空钨丝烧结炉是一款专为高校和科研院所设计的紧凑型实验真空炉。该炉采用CNC焊接炉壳和真空管道,确保无泄漏运行。快速连接的电气接口便于搬迁和调试,标配的电控柜操作安全便捷。

600T 真空感应热压炉,用于热处理和烧结

600T 真空感应热压炉,用于热处理和烧结

了解 600T 真空感应热压炉,专为真空或保护气氛中的高温烧结实验而设计。其精确的温度和压力控制、可调节的工作压力以及先进的安全功能使其成为非金属材料、碳复合材料、陶瓷和金属粉末的理想选择。

带9MPa气压的真空热处理和烧结炉

带9MPa气压的真空热处理和烧结炉

气压烧结炉是用于烧结先进陶瓷材料的高科技设备。它结合了真空烧结和压力烧结技术,以实现高密度、高强度的陶瓷。


留下您的留言