物理气相沉积（PVD）是一种用于在基底上沉积薄层材料的工艺。
通常在高温真空条件下进行。
PVD 使用的材料可以是纯原子元素，包括金属和非金属，也可以是氧化物和氮化物等分子。
这些材料通常通过大功率电力或激光进行气化，然后沉积到基底上。
这样就形成了一层薄而坚硬的耐腐蚀涂层。
5 种关键材料和工艺
1.纯原子元素
纯原子元素包括铝、钛和铜等金属以及非金属。
选择这些元素通常是为了它们的特殊性能，如导电性、硬度或耐腐蚀性。
2.分子
用于 PVD 的常见分子包括氧化物和氮化物。
例如，氮化钛因其极高的硬度和耐磨性而被广泛使用。
这使其成为切削工具和装饰涂层的理想材料。
3.热蒸发
热蒸发是指在高真空环境下将材料加热到沸点。
这将导致材料汽化，然后凝结在基底上。
这种技术适用于沉积纯金属和某些化合物。
4.溅射
在溅射过程中，要沉积的材料（目标）受到高能粒子的轰击。
这将导致原子或分子喷射并沉积到基底上。
溅射可以沉积更多的材料，包括合金和化合物。
它还能使涂层具有更好的附着力和均匀性。
5.应用和优点
PVD 涂层因其硬度、耐磨性、耐腐蚀性和耐高温性而被广泛应用于各种领域。
它们尤其受到航空航天、医疗和电子等行业的青睐。
PVD 的环保性以及所用材料的清洁度和纯度也使其成为外科植入物等应用的理想选择。
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