溅射是一种用于在表面上形成薄膜的方法。
这种技术在电子和光学等许多行业都很重要。
该工艺有几个主要步骤，可确保正确制作薄膜。
溅射工艺的 6 个关键步骤是什么？
1.制造真空
首先，将发生溅射过程的腔室中的空气抽空。
这个过程的压力非常低，约为 10^-6 托。
这一步骤非常重要，因为它可以保持环境清洁。
2.引入溅射气体
接下来，氩气等气体会进入腔室。
使用的气体类型取决于正在制造的材料。
3.产生等离子体
施加电压以产生辉光放电。
这种放电是一种等离子体，是下一步所需要的。
4.电离气体
在等离子体中，电子撞击气体原子。
这使得原子失去电子，变成带正电的离子。
5.将离子加速推向目标
正离子随后被推向目标材料。
这些离子以巨大的能量撞击目标。
6.沉积喷射出的材料
高能撞击导致目标材料脱落。
然后，这些材料会进入表面，形成一层薄膜。
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