PVD（物理气相沉积）工艺是一种复杂的方法，用于在各种材料上形成薄而均匀的涂层。
PVD 工艺的 5 个关键步骤是什么？
1.清洁
PVD 涂层工艺的第一步是清洁基底。
这包括清除基材表面的任何污垢、碎屑或其他杂质。
这一点至关重要，因为基底表面的杂质会影响涂层质量。
2.预处理
下一步是预处理，以提高涂层与基材的附着力。
这可能包括阳极氧化或等离子蚀刻等工艺。
这些工艺会在基材上形成粗糙的表面，使涂层更容易附着。
3.涂层
第三步是实际的 PVD 涂层工艺。
它包括将金属或陶瓷等源材料加热至高温，直至其蒸发。
然后将蒸发的材料沉积到基底上，形成一层薄而均匀的涂层。
镀膜过程通常在真空室中进行，以防止气化材料与空气或其他气体发生反应。
4.质量控制
涂层完成后，要对其进行检查，以确保其符合所需的规格。
这可能涉及测量涂层厚度或测试硬度和耐久性等测试。
5.涂饰
最后一步是精加工，包括对涂层基材进行其他加工，以改善其外观或性能。
这可能包括抛光或磨光、表面处理或着色等工序。
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