知识 放热气氛的两种类型及其应用是什么?富含与贫瘠气氛详解
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 2 天前

放热气氛的两种类型及其应用是什么?富含与贫瘠气氛详解


放热气氛的两种主要类型是富含(或浓缩)气氛和贫瘠(或稀薄)气氛。它们通过空气与气体的混合比例来区分,这决定了它们的化学成分和“还原”潜力。富含气氛含有较高水平的氢气和一氧化碳以防止氧化,而贫瘠气氛含有较少的还原剂,用于表面保护不太关键或需要氧化的场合。

在富含气氛和贫瘠气氛之间进行选择,根本上是在保护与成本之间进行权衡。富含气氛提供“还原”环境以保护钢材表面,而贫瘠气氛是铜等有色金属或有意进行氧化的工艺的经济高效解决方案。

1. 富含放热气氛

这种气氛通常被称为“浓缩”气氛,因为它使用的空气与气体的混合比例较低。它保留了较高浓度的还原性气体,使其在防止表面损伤方面具有化学活性。

化学成分

富含气氛通常由71.5% 氮气 (N2)12.5% 氢气 (H2)10.5% 一氧化碳 (CO)、5% 二氧化碳 (CO2) 和约 0.5% 甲烷 (CH4) 组成。

“还原”功能

氢气和一氧化碳的大量存在(总量约 23%)创造了一个还原环境。这意味着气氛会积极地清除氧气,防止其与被处理的金属发生反应。

主要应用

由于其保护性能,富含放热气体是黑色金属热处理的标准。

  • 钢的回火和退火:对于低碳钢的处理至关重要,以避免脱碳(钢材表面碳的流失)。
  • 钎焊:广泛用于铜和银的钎焊。
  • 烧结:是粉末冶金烧结应用的优选气氛。

2. 贫瘠放热气氛

也称为“稀薄”放热气氛,这些气氛是通过较高的空气与气体比例产生的。这导致近乎完全燃烧,剩余的可燃或还原性成分非常少。

化学成分

贫瘠气氛主要由氮气 (86.8%)二氧化碳 (10.5%) 组成。它含有极低水平的还原性气体,只有约 1.5% 的一氧化碳和 1.2% 的氢气。

“氧化”功能

由于氢气含量低和二氧化碳含量高,这种气氛不适合钢材的光亮热处理。在钢材的背景下,高含量的 CO2 作为氧化剂,会使金属表面产生氧化皮或变色。

主要应用

贫瘠气氛用于不需要还原环境或需要故意进行表面氧化的工艺。

  • 铜退火:虽然对钢材有氧化作用,但这种气氛适用于铜的退火。
  • 控制氧化:专门选择用于需要与表面发生化学反应而不是保护表面的工艺。

理解权衡

选择气氛时,必须在化学活性和材料敏感性之间取得平衡。

脱碳风险

如果在钢材上使用贫瘠气氛,高含量的 CO2 会与钢材表面的碳发生反应。这会导致脱碳,从而形成一层柔软、脆弱的表面层。处理低碳钢时需要富含气氛来维持碳含量。

安全性和可燃性

富含气氛含有超过 20% 的可燃气体(H2 和 CO),因此易燃;它们需要仔细处理和安全规程。贫瘠气氛的可燃气体含量低于 4%,通常不易燃,易于处理,但缺乏对黑色金属的保护能力。

为您的目标做出正确选择

决定完全取决于您处理的金属和所需的表面光洁度。

  • 如果您的主要重点是保护低碳钢:使用富含放热气氛,以防止脱碳并在退火或烧结过程中确保干净的表面。
  • 如果您的主要重点是铜退火:使用贫瘠放热气氛,因为它提供了足够的过程环境,而无需高氢混合物的成本或易燃性。

最终,使用富含气氛来防止钢材氧化,使用贫瘠气氛来诱导氧化或处理有色金属。

总结表:

特点 富含放热气氛 贫瘠放热气氛
主要成分 约 12.5% H2,10.5% CO,71.5% N2 约 1.2% H2,1.5% CO,86.8% N2
化学性质 强还原性 弱氧化性
可燃性 易燃(>20% 可燃物) 不易燃(<4% 可燃物)
主要应用 钢材退火、烧结、钎焊 铜退火、控制氧化
主要优点 防止脱碳和氧化 经济高效;更安全的操作

通过 KINTEK Precision 优化您的热处理工艺

选择合适的气氛对于材料的完整性至关重要。在KINTEK,我们专注于提供高性能的实验室设备和耗材,这些设备和耗材专为精确的环境控制而设计。

无论您需要先进的高温炉(马弗炉、管式炉或真空炉)、专业的高温高压反应器,还是坩埚和陶瓷等必需耗材,我们的专家团队随时准备支持您的研究和生产目标。

立即提升您的热处理效果——立即联系我们,讨论您的定制解决方案!

相关产品

大家还在问

相关产品

1200℃ 可控气氛炉 氮气保护炉

1200℃ 可控气氛炉 氮气保护炉

了解我们的KT-12A Pro可控气氛炉——高精度、重型真空室、多功能智能触摸屏控制器,以及高达1200°C的出色温度均匀性。非常适合实验室和工业应用。

多区域CVD管式炉 化学气相沉积腔体系统设备

多区域CVD管式炉 化学气相沉积腔体系统设备

KT-CTF14多区域CVD炉 - 精确的温度控制和气体流量,适用于高级应用。最高温度可达1200℃,配备4通道MFC质量流量计和7英寸TFT触摸屏控制器。

1400℃氮气和惰性气氛可控气氛炉

1400℃氮气和惰性气氛可控气氛炉

KT-14A可控气氛炉可实现精确的热处理。它采用智能控制器真空密封,最高可达1400℃,非常适合实验室和工业应用。

真空密封连续工作旋转管式炉 旋转管炉

真空密封连续工作旋转管式炉 旋转管炉

使用我们的真空密封旋转管炉体验高效的材料处理。非常适合实验或工业生产,配备可选功能,可实现受控进料和优化结果。立即订购。

实验室石英管炉管式RTP快速退火炉

实验室石英管炉管式RTP快速退火炉

使用我们的RTP快速加热管式炉,实现闪电般的快速加热。专为精确、高速的加热和冷却设计,配有方便的滑动导轨和TFT触摸屏控制器。立即订购,实现理想的热处理!

1200℃ 分体管式炉 石英管实验室管式炉

1200℃ 分体管式炉 石英管实验室管式炉

KT-TF12 分体管式炉:高纯度隔热,嵌入式加热丝线圈,最高温度 1200°C。广泛用于新材料和化学气相沉积。

网带可控气氛炉

网带可控气氛炉

了解我们的KT-MB网带烧结炉——非常适合电子元件和玻璃绝缘子的高温烧结。适用于开放式或可控气氛环境。

1700℃ 实验室马弗炉

1700℃ 实验室马弗炉

使用我们的 1700℃ 马弗炉获得卓越的温控效果。配备智能温度微处理器、TFT 触摸屏控制器和先进的隔热材料,可精确加热至 1700°C。立即订购!

1400℃ 实验室马弗炉

1400℃ 实验室马弗炉

KT-14M 马弗炉可精确控制高达 1500℃ 的高温。配备智能触摸屏控制器和先进的隔热材料。

1800℃ 实验室马弗炉

1800℃ 实验室马弗炉

KT-18 马弗炉采用日本AL2O3多晶纤维和硅钼棒加热元件,最高温度可达1900℃,配备PID温控和7英寸智能触摸屏。结构紧凑,热损失低,能效高。具备安全联锁系统和多种功能。

小型真空热处理及钨丝烧结炉

小型真空热处理及钨丝烧结炉

小型真空钨丝烧结炉是一款专为高校和科研院所设计的紧凑型实验真空炉。该炉采用CNC焊接炉壳和真空管道,确保无泄漏运行。快速连接的电气接口便于搬迁和调试,标配的电控柜操作安全便捷。

实验室真空倾斜旋转管式炉 旋转管式炉

实验室真空倾斜旋转管式炉 旋转管式炉

探索实验室旋转炉的多功能性:非常适合煅烧、干燥、烧结和高温反应。可调节的旋转和倾斜功能,实现最佳加热效果。适用于真空和可控气氛环境。立即了解更多!

石墨真空炉高导热薄膜石墨化炉

石墨真空炉高导热薄膜石墨化炉

高导热薄膜石墨化炉温度均匀,能耗低,可连续运行。

真空钼丝烧结炉

真空钼丝烧结炉

真空钼丝烧结炉为立式或箱式结构,适用于高真空、高温条件下金属材料的拉伸、钎焊、烧结和脱气。也适用于石英材料的脱羟处理。

碳材料石墨化炉石墨真空炉底部出料石墨化炉

碳材料石墨化炉石墨真空炉底部出料石墨化炉

碳材料底部出料石墨化炉,最高温度3100℃的超高温炉,适用于碳棒、炭块的石墨化和烧结。立式设计,底部出料,进出料方便,温场均匀度高,能耗低,稳定性好,液压升降系统,装卸方便。

卧式高温石墨真空石墨化炉

卧式高温石墨真空石墨化炉

卧式石墨化炉:这类炉子采用卧式设计,加热元件水平放置,能够对样品进行均匀加热。它非常适合需要精确温度控制和均匀性的较大或笨重样品的石墨化处理。

带9MPa气压的真空热处理和烧结炉

带9MPa气压的真空热处理和烧结炉

气压烧结炉是用于烧结先进陶瓷材料的高科技设备。它结合了真空烧结和压力烧结技术,以实现高密度、高强度的陶瓷。

真空热处理烧结钎焊炉

真空热处理烧结钎焊炉

真空钎焊炉是一种用于钎焊的工业炉,钎焊是一种金属加工工艺,通过使用熔点低于母材的填充金属来连接两块金属。真空钎焊炉通常用于需要牢固、清洁接头的优质应用。

超高温石墨真空石墨化炉

超高温石墨真空石墨化炉

超高温石墨化炉在真空或惰性气体环境中利用中频感应加热。感应线圈产生交变磁场,在石墨坩埚中感应出涡流,使其升温并向工件辐射热量,从而达到所需温度。该炉主要用于碳材料、碳纤维材料及其他复合材料的石墨化和烧结。

带陶瓷纤维内衬的真空热处理炉

带陶瓷纤维内衬的真空热处理炉

采用多晶陶瓷纤维绝缘内衬的真空炉,具有优异的隔热性能和均匀的温度场。可选1200℃或1700℃的最高工作温度,具有高真空性能和精确的温度控制。


留下您的留言