物理气相沉积（PVD）是一种在金属表面镀上一层另一种材料薄膜的工艺。
这种工艺可增强金属的表面特性，使其更坚硬、更耐用。
PVD 包括在真空环境中蒸发固体材料。
气化后的材料沉积在基底上。
涂层不是厚厚的一层，而是在微米级结合的微小堆积。
这种结合改变了金属表面的物理特性。
PVD 被广泛应用于各种行业和产品，包括计算机芯片、光学设备、太阳能电池板和医疗设备。
它通过创造更光滑的表面和减少粗糙度来改善性能属性。
了解物理气相沉积的 4 个要点
1.增强表面特性
PVD 使金属表面更坚硬、更耐用。
2.真空环境
该工艺涉及在真空中蒸发固体材料。
3.薄膜沉积
气化后的材料在基底上沉积成微米级的薄层。
4.广泛的行业应用
PVD 可用于计算机芯片、光学设备、太阳能电池板和医疗设备，以提高性能。
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