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等离子涂层是一种将薄层材料涂覆到基材上以增强或改变其性能的工艺。这种技术可以制造出具有各种特性的涂层，如亲水性、疏水性、抗反射性、绝缘性、导电性和耐磨性。选择物理气相沉积（PVD）还是等离子体增强化学气相沉积（PECVD）取决于基材的性质和所需的涂层类型。
等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)：
PECVD 包括使用等离子体来增强沉积薄膜所需的化学反应。这种方法用途广泛，可通过调整处理介质生产出具有特定性质的涂层。例如，它可以制造出类金刚石碳（DLC）涂层，这种涂层不仅环保，而且表面坚硬，类似金刚石。该工艺涉及使用碳氢化合物（氢和碳的组合），当引入等离子体时，碳氢化合物会解离，然后在表面重新结合形成坚硬的涂层。离子镀：
离子镀是一种基于等离子体的技术，用于沉积钛、铝、铜、金和钯等金属。镀层很薄，通常在 0.008 至 0.025 毫米之间，具有改善附着力、表面光洁度和沉积前原位清洁基底等优点。不过，它需要精确控制加工参数，并可能导致潜在的污染问题。其应用包括 X 射线管、涡轮叶片和核反应堆的防腐蚀保护。
离子注入和等离子沉积：
使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。其波长范围为 3-12um 红外线。
CVD 金刚石涂层：用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力
用于沉积薄膜的容器；具有铝涂层陶瓷本体，可提高热效率和耐化学性。
KT-PE12 滑动 PECVD 系统：功率范围广、可编程温度控制、滑动系统快速加热/冷却、MFC 质量流量控制和真空泵。
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在电子枪光束蒸发中，坩埚是一种容器或源支架，用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。
