物理气相沉积（PVD）是一种用于在基底上沉积材料薄膜的工艺。
它涉及将固体材料转化为气态，然后在基底上将其重新冷凝为固态。
这一过程是通过各种物理机制实现的，无需使用化学反应来储存能量。
4 个关键步骤说明
1.材料转化为蒸汽
在 PVD 过程中，最初为固态的待沉积材料被转化为蒸汽。
这通常是通过将材料加热到升华温度或使用溅射等物理方法来实现的。
在溅射法中，原子通过动量交换从固体或液体源释放出来。
其他方法包括使用强大的激光脉冲、电弧或离子/电子轰击。
2.蒸汽输送
气化后的材料将在低压区域内从其源传输到基底。
这一步骤需要一个受控环境，通常是真空室，以确保蒸气能够自由移动，不受大气气体的干扰。
3.在基底上凝结
蒸汽到达基底后，会凝结成一层薄膜。
薄膜的厚度从 1 微米到 10 微米不等，具体取决于应用的具体要求。
冷凝过程至关重要，因为它决定了最终薄膜的质量和性能。
4.应用和技术
PVD 应用于各行各业的涂层，可增强基材的耐磨性、耐腐蚀性和导电性等性能。
PVD 的三种主要类型包括溅射、蒸发和离子镀，每种类型都是在减压的受控气氛下操作。
这些技术可用于直接沉积或反应过程，在反应过程中，涂层材料与蒸汽/等离子相中的反应气体发生化学反应。
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