PVD 或物理气相沉积是一种在真空环境下将固体材料镀到基底上的工艺。
该工艺包括涂层材料的汽化、迁移和沉积到基底上。
因此，形成的薄膜可提高底层材料的性能和耐用性。
简单来说，什么是 PVD？- 4 个要点解释
1.涂层材料的气化
在 PVD 过程中，第一步是蒸发固体材料。
这可以通过蒸发、溅射或分离等各种方法实现。
材料被加热直至变成蒸汽，然后被引向基底。
2.迁移和沉积
材料一旦进入气相，就会在真空室中迁移。
由于粒子碰撞，材料会发生各种反应。
然后，原子或分子沉积到基底表面，基底的温度通常较低。
这一步骤对于在基底上形成均匀和附着的薄膜至关重要。
3.提高表面质量和耐久性
PVD 工艺产生的涂层比原始材料更坚硬、更耐用。
在表面需要经受恶劣条件或要求高精度的应用中，这种增强是非常有益的。
例如，在计算机芯片的生产中，PVD 涂层有助于形成更光滑的表面，减少粗糙度，提高设备的整体性能。
4.环保
与其他涂层技术相比，PVD 更为环保。
它减少了对有毒物质的需求，并将化学反应降至最低。
这使其成为一种对环境和相关操作人员都更清洁、更安全的工艺。
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