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PVD 或物理气相沉积是一种在真空环境下将固体材料镀到基底上的工艺。该工艺包括涂层材料的汽化、迁移和沉积到基底上，从而形成一层薄膜，提高底层材料的性能和耐用性。
答案摘要：
PVD 是一种在真空中蒸发固体材料，然后将其冷凝到基底上的薄膜沉积技术。这种工艺可提高涂层材料的表面质量和耐用性，适用于电子、光学和医疗设备等行业的各种应用。
详细说明：涂层材料的气化：
在 PVD 过程中，第一步是蒸发固体材料。这可以通过蒸发、溅射或分离等各种方法实现。材料被加热直至变成蒸汽，然后被引向基底。
迁移和沉积：
材料一旦进入气相，就会在真空室中迁移，并在粒子碰撞的作用下发生各种反应。然后，原子或分子沉积到基底表面，基底的温度通常较低。这一步骤对于在基底上形成均匀、附着的薄膜至关重要。提高表面质量和耐久性：
PVD 工艺产生的涂层比原始材料更坚硬、更耐用。在表面需要经受恶劣条件或要求高精度的应用中，这种增强非常有益。例如，在计算机芯片生产中，PVD 涂层有助于形成更光滑的表面，减少粗糙度，提高设备的整体性能。
环保性：
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