在溅射法中，靶材是用于在基底上形成薄膜涂层的固体材料源。它在真空室中受到高能离子的轰击，导致原子从其表面喷射出来。这些原子随后沉积到基底上，形成薄膜。靶材通常是扁平或圆柱形的，由所需涂层材料制成，如金或其他金属。靶材的表面大于溅射区域，以避免意外溅射，随着时间的推移，由于溅射过程，靶材表面会形成沟槽或 "赛道"。靶材 "一词的由来是它被离子或电子轰击时与射击目标的类比。
要点解释：
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溅射靶材的定义:
- 靶材是一种固体材料，是溅射过程中薄膜沉积的源头。
- 它受到高能离子的轰击，使原子喷射出来并沉积到基底上。
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在溅射过程中的作用:
- 靶材是真空镀膜工艺的原材料。
- 它被放置在真空室中，惰性气体（如氩气）在此被电离以产生等离子体。
- 离子被加速冲向目标，使原子脱落，然后凝结在基底上。
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靶的物理特性:
- 靶件通常为扁平或圆柱形。
- 它们必须足够大，以避免意外溅射到金属轴承或其他部件。
- 目标表面始终大于实际溅射区域，以确保均匀沉积。
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材料成分:
- 靶材：靶材由用于沉积的材料制成，如金、铝或其他金属。
- 例如，金靶是纯金圆盘，用于将金沉积到基底上。
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靶材的磨损:
- 随着时间的推移，靶材上会出现更深的沟槽或溅射占主导地位的区域，即所谓的 "赛道"。
- 这种磨损模式显示了靶材受到最强烈轰击的区域。
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Target （目标）一词的由来:
- target（靶子）一词来源于对射击目标的类比。
- 在溅射过程中，材料受到电子或离子束的轰击，类似于打靶。
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工艺机械:
- 在真空室中点燃氩等离子体，氩离子被加速冲向带负电的目标。
- 离子的高动能导致靶原子喷射出来，并在真空室中扩散。
- 然后，这些原子在基底上凝结成薄膜。
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薄膜沉积的重要性:
- 靶材的成分和质量直接影响沉积薄膜的性能。
- 靶材的均匀性、纯度和一致性是获得高质量涂层的关键。
了解了这些关键点，就能理解靶材在溅射过程中的关键作用及其对薄膜涂层质量的影响。
汇总表：
| 主要方面 | 详细内容 |
|---|---|
| 定义 | 溅射法中薄膜沉积的固体材料源。 |
| 作用 | 用离子轰击原材料，将原子喷射到基底涂层上。 |
| 形状 | 平面或圆柱形，大于溅射区域。 |
| 材料 | 金、铝或其他用于沉积的金属。 |
| 磨损 | 由于离子轰击，随着时间的推移会形成沟槽或 "赛道"。 |
| 工艺原理 | 氩等离子体电离，加速离子将目标原子喷射到基底上。 |
| 重要性 | 靶材质量直接影响薄膜的均匀性和性能。 |
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