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CVD 和 PVD 金刚石涂层的主要区别在于其形成过程和特性。CVD（化学气相沉积）是指通过气体分子的化学反应在基底上沉积一层，从而形成较厚且可能较粗糙的表面。相比之下，PVD（物理气相沉积）是将蒸汽冷凝到基底上，形成更薄、更光滑的表面。PVD 涂层更耐用，可以承受更高的温度，而 CVD 涂层可以沉积在更多的材料上。
CVD（化学气相沉积）金刚石涂层：
CVD 是利用气体分子发生化学反应，在基底上沉积一层。这种工艺通常会产生较厚的涂层，表面可能较粗糙。化学气相沉积法的优势在于它的多功能性，可以沉积在各种材料上。这种方法尤其适用于在复杂或脆弱的基底上制作涂层，因为这些基底可能无法承受 PVD 所涉及的物理力。PVD（物理气相沉积）金刚石涂层：
PVD 则是将蒸汽凝结在基底上。这种工艺通常能产生更薄、更光滑的涂层。与 CVD 涂层相比，PVD 涂层的耐久性更好，可以承受更高的温度。这使得 PVD 成为对耐久性和耐高温性要求较高的应用的首选方法。
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