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技术团队 · Kintek Solution

更新于 3周前

碳化硅的制造过程是怎样的?从原材料到耐用陶瓷

碳化硅 (SiC) 是硅和碳的合成化合物,以其卓越的硬度和广泛的工业应用而闻名。碳化硅的制造过程涉及几个步骤,包括原料准备、合成、成型和烧结。该材料因其优异的机械、热学、化学和物理性能而广泛应用于传统工业和高科技领域。碳化硅陶瓷(例如管材)的生产涉及将碳化硅粉末与烧结添加剂混合,并将其加热到极高的温度,以获得致密且耐用的产品。

要点解释:

碳化硅的制造过程是怎样的?从原材料到耐用陶瓷
  1. 原料准备

    • 碳化硅是合成生产的,因为天然存在的碳化硅极其罕见,并且仅以碳硅石的形式存在。
    • 主要原材料是硅和碳,它们在高温下结合形成碳化硅。
  2. 合成过程

    • 碳化硅的合成通常涉及艾奇逊工艺,其中硅砂 (SiO2) 和碳(通常以石油焦的形式)的混合物在电阻炉中在 1700°C 至 2500°C 的温度下加热。
    • 化学反应为:SiO2 + 3C → SiC + 2CO。
    • 该过程会形成碳化硅晶体,然后将其粉碎并根据尺寸和纯度进行分级。
  3. 成型

    • 碳化硅陶瓷,如管材,是通过将碳化硅粉末与非氧化物烧结添加剂混合制成的。
    • 然后根据所需的最终产品,使用各种方法将混合物成型,包括铸造、干压或挤出。
    • 对于复杂的形状,铸造和干压等技术特别有用。
  4. 烧结

    • 成型后,碳化硅产品在极高温度下烧结,通常在 2000°C 至 2600°C 之间。
    • 烧结是使材料致密化的关键步骤,从而使产品具有高密度、硬度和尺寸稳定性。
    • 高烧结温度确保最终产品具有最小的孔隙率和优异的机械性能。
  5. 碳化硅陶瓷的应用

    • 碳化硅陶瓷广泛应用于传统工业,例如用于烧结技术陶瓷和瓷器的接收囊和马弗炉的生产。
    • 在高科技领域,碳化硅因其优异的性能,越来越多地应用于半导体、核能、国防、航天技术等领域。
    • 碳化硅加热元件通过压制或挤压然后烧结生产,适合高温应用。
  6. 机械加工性和电气性能

    • 碳化硅陶瓷可被设计为具有受控的电阻率,使其可用于放电加工 (EDM),以快速、准确地加工复杂表面。
    • 通过将电阻率控制在100Ω·cm以下,可以利用电火花加工对碳化硅陶瓷进行加工,有利于制造大型或形状复杂的零件。
  7. 碳化硅陶瓷的性能

    • 碳化硅陶瓷具有优异的机械性能,包括高硬度、耐磨性和强度。
    • 它们还具有出色的热性能,例如高导热率和低热膨胀,使其适合高温应用。
    • 从化学角度来看,碳化硅具有很强的抗腐蚀和抗氧化能力,这增强了其在恶劣环境下的耐用性。

综上所述,制造碳化硅的过程涉及在高温下合成硅和碳,然后进行成型和烧结,以生产致密且耐用的陶瓷产品。这些产品因其卓越的机械、热和化学性能而广泛应用于传统和高科技行业。有关碳化硅陶瓷的更详细信息,可以参考 碳化硅陶瓷

汇总表:

细节
原料准备 使用硅和碳进行合成生产;天然存在的 SiC 很罕见(莫桑石)。
合成过程 艾奇逊工艺:SiO2 + 3C → SiC + 2CO,温度为 1700°C–2500°C。粉碎并分级纯度。
成型 与烧结助剂混合;通过铸造、干压或挤压成型。
烧结 加热至 2000°C–2600°C 以实现致密化、最小孔隙率和高耐用性。
应用领域 用于传统工业(如马弗炉)和高科技领域(如半导体)。
特性 高硬度、导热性、耐腐蚀性和可通过电火花加工进行加工。

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