溅射镀膜是一种物理气相沉积（PVD）工艺，用于在基底上涂敷一层薄薄的功能性涂层。该工艺是通过离子轰击将材料从目标表面喷射出来，形成蒸气云，在基材上凝结成涂层。由于其平滑性和涂层厚度的高度可控性，该技术被广泛应用于各行各业的硬质装饰涂层和摩擦涂层。
溅射涂层工艺：
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制备腔体：
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工艺开始时，首先要对腔室进行抽真空，以去除几乎所有分子，创造一个洁净的环境。然后根据要沉积的材料，在腔体内回充工艺气体，如氩气、氧气或氮气。启动溅射过程：
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对目标材料（即磁控管阴极）施加负电位。腔体作为正阳极或接地。这种设置可在腔体内形成等离子体环境。
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靶材喷射：
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施加在靶材上的高压会引起辉光放电，加速离子向靶材表面移动。当这些离子撞击靶材时，会通过一种称为溅射的过程将材料从靶材表面喷射出来。涂层沉积：
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喷射出的靶材形成蒸汽云，从靶材向基底移动。当它到达基底时，会凝结成一层薄涂层。这层涂层在原子层面上与基底紧密结合，成为基底的永久组成部分，而不仅仅是一层涂层。增强和变化：
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在某些情况下，会使用氮气或乙炔等额外的反应气体，这些气体会与喷射出的材料发生反应，这一过程被称为反应溅射。这种方法可用于多种涂层，包括氧化物涂层。
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应用和优势：硬质装饰涂层：
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溅射技术因其光滑性和高耐久性，在钛、铬、锆和碳氮化物等涂层方面具有优势。
摩擦涂层：
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广泛应用于汽车市场的 CrN、Cr2N 等涂层，以及与类金刚石碳（DLC）涂层的各种组合，可提高部件的性能和使用寿命。
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涂层厚度的高度控制：
对于需要精确控制厚度的光学镀膜生产来说至关重要。
平滑涂层：
