热蒸发薄膜沉积是物理气相沉积（PVD）的一种方法。
在此过程中，固体材料在高真空环境中被加热至高温。
这将导致材料蒸发，随后在基底上凝结形成薄膜。
这种工艺广泛应用于工业领域，如在太阳能电池、薄膜晶体管、半导体晶片和碳基有机发光二极管中形成金属结合层。
什么是薄膜沉积热蒸发？5 大要点解析
1.蒸发
该过程首先在一个与大电流源相连的坩埚中加热目标材料。
这种加热是在高真空条件下进行的，通常压力在 10^(-6) 到 10^(-5) 毫巴之间。
高温使材料蒸发，变成蒸汽。
2.运输
蒸发后的材料通过真空传送到基底上。
真空环境至关重要，因为它能确保只有所需材料的蒸气才能到达基底，从而保持沉积过程的纯度和完整性。
3.冷凝
蒸汽到达基底后，会凝结成一层薄膜。
薄膜可以是单一材料的单层，也可以是多种材料的共沉积，形成复杂的结构。
4.可重复性和生长
该过程可重复多次，使薄膜生长到所需厚度。
每个循环都有助于薄膜的成核和生长，从而实现对薄膜特性和厚度的精确控制。
5.优势和应用
热蒸发因其高沉积率和材料利用效率而备受青睐，在某些薄膜应用中比其他方法更具优势。
在光学、电子和太阳能电池等需要精确和高质量涂层的行业中，热蒸发尤其有用。
电子束沉积等先进技术增强了热蒸发的能力，使涂层的质量更高、精度更好。
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