在 PVD 蒸发过程中，各种材料被用来制作薄膜涂层。这些材料在真空环境中蒸发，然后沉积到基底上。
PVD 蒸发过程中使用的 4 类主要材料
金属和合金
PVD 蒸发中常用的金属包括铝、钛、铬及其合金。
选择这些材料是因为它们具有耐腐蚀性、硬度和耐磨性等特性。
例如，钛因其出色的生物相容性和耐腐蚀性而常用，是医疗设备和航空航天应用的理想材料。
金属氧化物
氧化铝 (Al2O3) 和二氧化钛 (TiO2) 等金属氧化物也经常用于 PVD 工艺。
这些材料因其光学特性、热稳定性和电绝缘性而闻名。
例如，二氧化钛具有光催化特性，可用于自清洁窗户和太阳能电池板。
复合材料
PVD 中的复合材料可包括金属、陶瓷甚至某些聚合物的组合。
这些材料旨在实现特定的性能，如增强机械强度、导热性或特定的光学性能。
使用复合材料可制造出符合特定应用要求的定制薄膜。
工艺细节
在 PVD 的蒸发阶段，使用电子束或等离子弧等高能源将目标材料（待沉积材料）加热至高温。
这一过程会使材料气化，变成气体。
气化后的原子穿过真空室，沉积到基底上，形成薄膜。
材料和特定 PVD 技术（如热蒸发或溅射）的选择取决于最终涂层所需的性能和具体应用。
应用
PVD 蒸发中使用的材料是根据薄膜的预期应用来选择的。
例如，在电子工业中，铜和铝等材料具有导电性，而在航空航天工业中，钛及其合金等材料具有强度高、重量轻的特点。
在光学应用中，金属氧化物等材料具有透明度和折射率特性。
总之，PVD 蒸发过程中使用的材料多种多样，可满足特定的应用需求，从增强机械性能到改善光学和电气特性，不一而足。
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