高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是一种以短脉冲方式施加高峰值电压的技术。这些脉冲通常非常短暂，持续时间在 50 到 200 微秒之间。这些脉冲的频率约为 500 赫兹。占空比，即 "接通 "时间与 "断开 "时间之比，通常小于 10%。这意味着系统大部分时间处于 "关闭 "状态。
4 个关键因素说明
1.高峰值电压
HiPIMS 中应用的电压具有峰值高的特点。这种高电压对于实现高效溅射所需的高功率密度至关重要。确切的电压会因具体的设置和所涉及的材料而异。不过，一般在 100V 至 3kV 范围内。
2.脉冲持续时间短
HiPIMS 的脉冲非常短，通常在 50 到 200 微秒之间。较短的持续时间可将能量集中在一个短暂的时间段内。这增强了溅射粒子的电离，与连续直流溅射相比，电离程度更高。这种高电离度有利于提高薄膜质量和附着力。
3.低频和占空比
HiPIMS 的脉冲频率相对较低，约为 500 赫兹，占空比小于 10%。低占空比意味着系统大部分时间处于 "关闭 "状态。这样可以在脉冲之间进行冷却和稳定。这种间歇操作有助于控制温度，防止对目标和基底造成热损伤。
4.运行模式
根据脉冲持续时间和频率的不同，HiPIMS 系统可在电压模式或电流模式下运行。电压模式适用于较短的脉冲和较高的频率，重点是通过快速的电压变化来加速离子。在电流模式下，系统保持恒定电流，以维持溅射过程。
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