PVD TiN 涂层的传统应用温度为 400 至 500°C（750 至 930°F）。
PVD 工艺依靠离子轰击而不是高温作为驱动力。
需要镀膜的基体被放置在真空室中，并被加热到一定温度。
钛涂层材料被气化，同时引入 N2 等活性气体并使其离子化。
气化的钛原子与电离的氮反应形成 TiN 化合物，沉积在基底上形成涂层。
与 CVD 工艺相比，PVD 工艺的操作温度要低得多。
CVD 加工温度通常在 850 - 1100°C （1550 - 2000ºF）之间。
PVD 涂层非常适合回火温度较高的钢材。
PVD 涂层厚度较薄，约为 3-5μm，加工温度较低，约为 500°C。
这使得 PVD 涂层适用于更广泛的基材和应用，特别是对较高温度范围敏感的基材。
此外，PVD 涂层还具有保持公差和减少大多数材料变形的优点。
相比之下，CVD 涂层的耐温要求更高，由于加工温度较高（800-1000°C），通常用于硬质合金（如硬质合金）。
总的来说，PVD 和 CVD TiN 涂层的选择取决于部件的最终使用温度。
较高的使用温度可能使 CVD 涂层方法更受欢迎，而 PVD 涂层则用途更广，适用于更广泛的基材和应用。
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