知识 碳可以溅射吗?需要考虑的 5 个要点
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技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

碳可以溅射吗?需要考虑的 5 个要点

是的,碳可以溅射到试样上。

但是,生成的薄膜通常氢比例较高。

因此,在 SEM 操作中,碳溅射是不可取的。

高氢含量会影响电子显微镜成像的清晰度和准确性。

5 个考虑要点

碳可以溅射吗?需要考虑的 5 个要点

1.什么是碳溅射?

碳溅射涉及高能离子或中性原子撞击碳靶表面的过程。

由于能量的传递,一些碳原子会被喷射出来。

这些喷出的原子随后沉积到试样上,形成一层薄膜。

2.电压在溅射中的作用

该过程由外加电压驱动。

该电压加速电子向正阳极移动。

它还将带正电的离子吸引到负偏压的碳靶上。

这就启动了溅射过程。

3.氢含量问题

尽管碳溅射在扫描电子显微镜中的应用是可行的,但却受到限制。

这是由于溅射薄膜中的氢浓度较高。

氢会与电子束相互作用,导致图像变形或干扰试样分析。

4.替代方法

为 SEM 和 TEM 应用实现高质量碳涂层的另一种方法是在真空中对碳进行热蒸发。

这种方法避免了与高氢含量相关的问题。

它可以使用碳纤维或碳棒,后者是一种称为 Brandley 法的技术。

5.SEM 的实际应用

总之,虽然技术上可以将碳溅射到试样上,但由于溅射薄膜中氢含量较高,其在 SEM 中的实际应用受到限制。

要在电子显微镜中获得高质量的碳涂层,热蒸发等其他方法是首选。

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