利用化学气相沉积（CVD）技术制造钻石是一种令人着迷的工艺，它可以制造出高品质的合成钻石。
利用 CVD 制造合成钻石的 5 个步骤
1.制备种子
这一过程从种子开始，种子可以是钻石薄片或石墨源。
种子是钻石生长的基础。
种子被放置在一个抽成高真空（约 20 毫升）的腔室中，以防止任何污染。
2.向室内充入气体
然后在腔室内注入混合气体，主要是甲烷（一种富含碳的气体）和氢气或氧气。
这种混合气体为金刚石的生长提供了所需的碳源。
3.能量的应用
对混合气体施加能量以分解化学键。
这种能量可以通过热量（通常高达 800°C）或电离等离子体的形式提供。
电离过程非常关键，因为它能使气体分子解离，释放出碳原子。
4.碳的沉积
随着气体分子的分解，释放出的碳原子附着在金刚石种子上。
这种沉积是逐层进行的，碳原子与种子和彼此间形成牢固的结合。
5.生长和抛光
只要工艺继续进行，钻石就会继续生长。
金刚石会被定期取出，对其表面进行抛光，以去除任何非金刚石碳原子，然后将其放回室内继续生长。
这个过程可能需要几个星期。
完成和定型
一旦达到所需的尺寸和质量，合成金刚石晶体就会从腔室中取出。
然后将它们切割和抛光成最终产品，这可能与天然钻石毫无区别。
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