PVD 电镀（或物理气相沉积）是在真空室中将固体材料蒸发成气态，然后冷凝到基材表面，从而在各种材料上形成薄膜的一种工艺。这种技术广泛应用于汽车、航空航天、切削工具和装饰等行业，以提高材料的表面特性和性能。
详细说明：
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工艺概述：
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在 PVD 电镀中，目标材料（要沉积的物质）在真空环境中被物理气化。这种气化可通过各种方法进行，如蒸发（使用阴极电弧或电子束源）或溅射（使用磁增强源或 "磁控管"）。气化后的材料穿过真空，沉积到基底上，形成薄膜。沉积机制：
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- 沉积是逐个原子进行的，这增强了薄膜与基底的附着力。这种逐原子沉积机制允许使用多种材料在金属、塑料、玻璃和陶瓷等各类基底上镀膜。与其他涂层技术不同，该工艺并不局限于几种金属。PVD 工艺类型：
- 溅射： 在这种方法中，原子在高能粒子（通常是离子）的轰击下从目标材料中喷射出来。喷射出的原子然后沉积到基底上。
- 阴极电弧： 这种方法采用高电流电弧放电，使阴极（目标）表面的材料气化。气化后的材料凝结在基底上。
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热蒸发： 将目标材料加热至高温，直至其蒸发，然后蒸气沉积到基底上。
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优势和应用：
PVD 涂层以其高硬度、耐腐蚀性和耐高温性著称。它们可用于提高各行业工具和部件的耐用性和性能。例如，PVD 涂层可减少磨损，从而大大延长切削工具的使用寿命。
环境影响：
