在溅射过程中，溅射气体的压力对薄膜的质量和形成速度起着至关重要的作用。
溅射气体的压力如何影响薄膜质量和溅射速率：4 个关键因素
1.对薄膜质量的影响
较低的压力： 溅射室中的压力越低，薄膜的致密性越高，结晶度越好。
这是因为在较低的压力下，溅射原子的平均自由路径更长，使它们在与其他原子碰撞之前能走得更远。
这使得薄膜结构更均匀致密，结晶度更高。
更高的压力： 另一方面，较高的压力可以提高沉积速率。
但是，如果压力过高，会导致薄膜的微观结构出现孔隙。
较高压力下碰撞频率的增加也会导致薄膜的随机取向，影响结晶度。
因此，必须找到一个最佳的压力范围，以达到理想的薄膜质量。
2.对溅射速率的影响
较低的压力： 压力越低，溅射率越低。
这是因为在低压下，溅射气体的密度较低，导致气体离子与目标材料之间的碰撞较少。
因此，喷射出的靶原子数量较少，导致溅射率降低。
更高的压力： 相反，压力越高，沉积率越高。
在较高压力下，溅射气体的密度增加，导致与目标材料发生更多碰撞，从而提高溅射率。
但是，如果压力过高，可能会导致靶材中毒，即腔室中的活性气体对靶材表面产生负面影响。
这会降低薄膜的生长速度并影响其质量。
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