更新于 3周前
PVD 涂层是一种多用途的精密技术，可用于各种应用领域。
PVD 涂层的厚度通常在 0.25 至 5 微米之间。
出于装饰目的，例如在不锈钢板上，涂层可薄至 0.30 微米。
在功能性应用中，涂层厚度一般在 2 到 5 微米之间。
对于磨损条件较苛刻的产品，需要使用较厚的 PVD 涂层（通常大于 1 微米）。
基底应更硬，以支撑薄涂层，防止其在局部压力下达到断裂点。
通过我们的专业沉积薄膜，充分挖掘您的材料潜力并提高性能。 立即联系 KINTEK SOLUTION，获取定制解决方案，将您的产品提升到一个新的水平！
CVD 金刚石涂层：用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力
使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。其波长范围为 3-12um 红外线。
纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金（WC-Co）为基体，采用化学气相法（简称 CVD 法）在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。
介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉，用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。
CVD 金刚石拉丝模坯：硬度高、耐磨性好，适用于各种材料的拉丝。是石墨加工等磨料磨损加工应用的理想选择。
915MHz MPCVD 金刚石机及其多晶有效生长，最大面积可达 8 英寸，单晶最大有效生长面积可达 5 英寸。该设备主要用于大尺寸多晶金刚石薄膜的生产、长单晶金刚石的生长、高质量石墨烯的低温生长以及其他需要微波等离子体提供能量进行生长的材料。
体验 CVD 金刚石修整器坯料的无与伦比的性能：高导热性、优异的耐磨性和方向独立性。
用于热管理的 CVD 金刚石：导热系数高达 2000 W/mK 的优质金刚石，是散热器、激光二极管和金刚石氮化镓 (GOD) 应用的理想之选。
了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备，这是一种微波等离子体化学气相沉积方法，用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。
用于沉积薄膜的容器；具有铝涂层陶瓷本体，可提高热效率和耐化学性。
用于高温应用的容器，可将材料保持在极高温度下蒸发，从而在基底上沉积薄膜。
CVD 掺硼金刚石：一种多功能材料，可实现量身定制的导电性、光学透明性和优异的热性能，应用于电子、光学、传感和量子技术领域。
CVD 金刚石切削刀具：卓越的耐磨性、低摩擦、高导热性，适用于有色金属材料、陶瓷和复合材料加工
您正在为您的实验室寻找高质量的钒（V）材料吗？我们提供多种可定制的选择，包括溅射靶材、粉末等，以满足您的独特需求。现在就联系我们，了解具有竞争力的价格。
了解我们的薄层光谱电解槽的优势。耐腐蚀、规格齐全、可根据您的需求定制。
电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。
主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术，通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。
