更新于 3个月前
PVD，即物理气相沉积，是一种比许多其他方法（尤其是电镀）更环保的涂层方法。
与电镀等其他一些涂层技术不同，PVD 过程不会释放有害气体或产生废水。
PVD 涂层可回收利用，有助于保持不锈钢等基础材料的价值。
PVD 涂层可用于电信、汽车和珠宝等多个行业。
PVD 涂层的耐用性意味着产品的使用寿命更长，从而减少了频繁更换的需要。
PVD 涂层被认为是安全的，在医疗植入物等对纯度和洁净度要求极高的行业中甚至是首选。
与 KINTEK SOLUTION 一起探索可持续涂层的未来。 体验 PVD 技术的突破性优势，包括其环保设计、可回收性和无与伦比的耐用性。将您的工业涂料提升到安全、健康和环保的新高度。加入我们的行业变革行列--选择 KINTEK SOLUTION，实现您应得的绿色、可持续发展的未来。
使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。
正在为您的实验室寻找高品质的铬镍合金（CrNi）材料？那就来看看我们的专业定制产品吧。探索我们的各种尺寸和规格，包括溅射靶材、涂层、粉末等。立即购买！
射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统
RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC（类金刚石碳膜）。其波长范围为 3-12um 红外线。
介绍我们的倾斜旋转式 PECVD 炉，用于精确的薄膜沉积。可享受自动匹配源、PID 可编程温度控制和高精度 MFC 质量流量计控制。内置安全功能让您高枕无忧。
您正在为您的实验室寻找经济实惠的氮化钛 (TiN) 材料吗？我们的专长在于生产不同形状和尺寸的定制材料，以满足您的独特需求。我们提供各种规格和尺寸的溅射靶材、涂层等。
用于沉积薄膜的容器；具有铝涂层陶瓷本体，可提高热效率和耐化学性。
用于高温应用的容器，可将材料保持在极高温度下蒸发，从而在基底上沉积薄膜。
纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金（WC-Co）为基体，采用化学气相法（简称 CVD 法）在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。
CVD 金刚石切削刀具：卓越的耐磨性、低摩擦、高导热性，适用于有色金属材料、陶瓷和复合材料加工
KT-PE12 滑动 PECVD 系统：功率范围广、可编程温度控制、滑动系统快速加热/冷却、MFC 质量流量控制和真空泵。
了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备，这是一种微波等离子体化学气相沉积方法，用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。
用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备
使用我们专为实验室和金刚石生长设计的 Bell-jar Resonator MPCVD 设备获得高质量的金刚石薄膜。了解微波等离子体化学气相沉积如何利用碳气和等离子体生长金刚石。
CVD 金刚石涂层：用于切割工具、摩擦和声学应用的卓越导热性、晶体质量和附着力
915MHz MPCVD 金刚石机及其多晶有效生长，最大面积可达 8 英寸，单晶最大有效生长面积可达 5 英寸。该设备主要用于大尺寸多晶金刚石薄膜的生产、长单晶金刚石的生长、高质量石墨烯的低温生长以及其他需要微波等离子体提供能量进行生长的材料。
体验 CVD 金刚石修整器坯料的无与伦比的性能：高导热性、优异的耐磨性和方向独立性。
