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离子束溅射 (IBS) 是一种复杂的技术，用于各行各业的高质量薄膜沉积。
离子束溅射技术中的等离子体位于离子源内。
压力的降低大大降低了薄膜的污染程度。
离子束溅射使用的能量结合比真空镀膜高约 100 倍。
3.多功能性
与蒸发相比，不同材料的溅射特性较小。
此外，合金和目标化合物材料也可以通过溅射形成与目标成分比例相同的薄膜。
4.精确控制
离子束溅射可精确控制各种参数。
这些参数包括目标溅射率、入射角、离子能量、离子电流密度和离子通量。
主要用于电力电子领域的一种技术。它是利用电子束技术，通过材料沉积将碳源材料制成的石墨薄膜。
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