化学气相沉积(CVD)反应器是一个复杂的系统,用于在基底上沉积薄膜。
8 个基本部分说明
1.气体输送系统
该系统向反应腔提供前驱体。
2.反应腔
这是薄膜沉积的地方。
3.基底装载机制
该系统可将基底引入或移出反应腔。
4.能量源
提供化学反应所需的热量或能量。
5.真空系统
通过去除不需要的气体来维持受控环境。
6.排气系统
用于清除挥发性副产品和多余气体。
7.废气处理系统
用于处理废气中的有害或有毒成分。
8.过程控制设备
包括压力、温度和时间等参数的仪表、控制器和监控系统。
每个组件对 CVD 反应器的高效和有效运行都至关重要。
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