在化学气相沉积（CVD）工艺中，气体是必不可少的。它们既是反应物，也是载体。
使用的主要气体包括氢气、氩气和氮气。这些气体有助于将前驱体气体输送到反应室，并清除副产物。
还使用特定的前驱体气体。它们通过化学反应将材料沉积在基底上。
4 种关键气体解释
1.载气
载气是惰性气体。它们不参与化学反应。但是，它们对于保持反应气体的流动和去除副产物至关重要。
CVD 中常见的载气包括氢气、氩气和氮气。
氢气常用是因为它能与某些材料发生反应，有助于沉积过程。
氩气和氮气具有惰性。这可确保它们不会干扰化学反应。
2.前驱体气体
前驱体气体具有反应性。它们在基底上发生化学反应，沉积出所需的材料。
前驱气体的选择取决于要沉积的材料。
例如，硅烷（SiH4）通常用于沉积硅基材料。
金属有机化合物用于沉积含金属的薄膜。
3.化学反应
CVD 过程涉及几种类型的化学反应。这些反应包括气体的分解、结合、水解、氧化和还原。
这些反应发生在基底表面，导致薄膜或涂层的沉积。
这些反应受 CVD 室中压力和温度的影响。可以通过调节这些参数来控制沉积材料的质量和特性。
4.副产品和清除
在 CVD 过程中会产生不需要的副产品。为了保持沉积薄膜的纯度和质量，需要将这些副产品从反应腔中清除。
载气有助于清除这些副产物。这可确保反应环境有利于沉积过程。
结论
在 CVD 过程中使用的气体是不可或缺的。它们具有多种功能，包括输送反应物、促进化学反应和去除副产物。
精心选择和控制这些气体对于沉积材料达到理想的质量和性能至关重要。
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