物理气相沉积（PVD）是一种为表面镀上一层材料薄膜的工艺。这可增强表面特性，如硬度、耐久性、抗化学性和抗氧化性。该工艺包括三个主要步骤：涂层材料的气化、气化材料在低压环境中的传输以及材料在基底上的沉积。PVD 因其能够提供持久、光滑的高性能涂层而广泛应用于航空航天、汽车和医疗等行业。
什么是 PVD 工艺？了解物理气相沉积的 5 个关键步骤
1.涂层材料气化
在 PVD 的第一步，要沉积的材料被气化。这可以通过蒸发、溅射或分离等各种方法实现。蒸发是指加热材料直至其变成蒸汽。溅射是用高能粒子轰击材料，将原子从其表面喷射出来。
2.运输
材料汽化后，将在低压气态或等离子环境中传输。这一步骤可确保气化后的粒子有效地从源头移动到基底，而不会造成重大损失或污染。低压环境有助于保持气化材料的纯度和完整性。
3.沉积到基底上
最后一步涉及气化材料在基底表面的冷凝和可能的反应。如果气化材料与气态材料或共沉积材料发生反应，就会形成化合物。沉积的结果是形成一层薄膜，附着在基底上，增强其表面特性。
4.多功能性和有效性
PVD 是一种多功能、高效的薄膜和涂层应用方法。它能显著提高产品的性能和使用寿命。它能制造出光滑、耐久、耐磨损和耐腐蚀的涂层，这一点尤为重要。这使它成为各种高科技行业的一项基本技术。
5.高科技行业的应用
PVD 广泛应用于航空航天、汽车和医疗等行业。这些行业都依赖 PVD 技术，因为它能提供具有光滑表面的持久、高性能涂层。这可确保产品经久耐用、耐磨损和耐腐蚀。
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