陶瓷涂层的另一个名称是物理气相沉积(PVD)涂层。之所以使用这个术语,是因为该工艺是通过真空技术在表面沉积薄层陶瓷材料。
解释:
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物理气相沉积(PVD): PVD 是一种将陶瓷材料薄膜或涂层应用到基底上的方法。这一过程包括陶瓷材料在真空环境中蒸发或升华,然后将蒸发的材料冷凝到被镀物体的表面。其结果是形成一层非常薄、均匀和耐用的陶瓷层,从而增强物体的硬度、耐磨性和耐腐蚀性等性能。
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PVD 陶瓷涂层的类型: 在提供的参考资料中,提到了各种颜色和类型的陶瓷涂层,如金色(TiN)、玫瑰金色(ZrN)、青铜色(TiAlN)、蓝色(TiAlN)、黑色(TiAlCN)和暗红色(ZrN)。这些涂层不仅提供了美观的色彩,还改善了涂层物品的功能特性。
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陶瓷涂层的优点和缺点: 陶瓷涂层有许多优点,包括可用于多种材料、耐极端温度和高耐久性。不过,陶瓷涂层也有缺点,如通常在高温下使用,难以遮盖特定区域进行局部涂层,以及由于工艺复杂而需要运送到专门的涂层中心。
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陶瓷涂层的特点: 通过化学气相沉积(CVD)等方法生产的陶瓷涂层具有晶粒结构细腻、不透水、纯度高和硬度高的特点。这些涂层通常只有几微米厚,沉积速度较慢,可确保高质量的结合和均匀的覆盖。
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陶瓷涂层的技术进步: 参考文献还讨论了气溶胶沉积等较新的技术,这种技术可以在较低的温度下沉积陶瓷涂层,从而可以对熔点较低的材料进行涂层处理。这种方法具有高速涂层效率和较低的加工温度,可降低成本和缩短生产时间,因此在工业生产中很有优势。
总之,陶瓷涂层也被称为 PVD 涂层,因为这种涂层方法是在真空环境中对陶瓷材料进行物理沉积。该工艺可产生薄、耐用的功能性涂层,从而增强涂层材料的性能。
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