CVD 金刚石，或称化学气相沉积金刚石，是一种通过低压下的化学过程在实验室培育出的金刚石。
这种方法包括使用经过特定化学反应的金刚石种子，在基底上沉积一层金刚石。
了解实验室培育钻石的 7 个要点
1.生成过程
CVD 工艺以基底（通常是金刚石薄片）为起点，在基底上沉积金刚石材料。
该过程包括将气体（通常是甲烷和氢的混合物）引入反应室。
在低压和高温等受控条件下，气体被电离成等离子状态。
在这种状态下，碳原子从气体分子中分离出来，沉积到基底上，以金刚石的形式结合在一起。
2.CVD 方法的变化
CVD 方法有多种类型，包括
- 等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）:使用等离子体增强化学反应。
- 微波等离子体化学气相分解（MPCVD）:利用微波能量产生等离子体。
- 低压化学气相分解（LPCVD）:在非常低的压力条件下运行。
- 超高真空化学气相分解（UHVCVD）:在超高真空环境下进行，可实现精确控制。
3.特征和生长后处理
CVD 金刚石的生长速度非常快，这可能会导致出现颗粒、斑点状内含物和棕色色调等不理想的特征。
通过生长后处理，如高压高温（HPHT）处理，可以减轻或改善这些缺陷。
不过，这种处理可能会带来新的问题，如乳化。
通常建议选择未经过此类处理的 CVD 钻石，以获得更自然的外观。
4.与 HPHT 钻石的比较
虽然 CVD 和 HPHT 都是制造实验室培育钻石的方法，但它们在工艺上有很大不同。
HPHT 复制了钻石在极压和极温条件下形成的自然过程，而 CVD 则是在低压条件下进行，并涉及化学反应。
5.应用和市场
CVD 钻石与天然钻石一样，在进入市场之前都要经过切割、抛光，并由 GIA 和 IGI 等独立实验室进行分级。
与开采的钻石相比，CVD 钻石因其生产道德、环境效益和成本效益而备受推崇。
6.历史背景
20 世纪 50 年代，人们首次发现了使用 HPHT 方法在实验室中培育钻石，此后，CVD 制造钻石的工艺于 20 世纪 80 年代完全确立。
CVD 金刚石制造领域的先驱包括 W.G. Eversole、Derjaguin 和 J. C. Angus。
7.总结
总之，CVD 钻石是宝石学领域的一个令人着迷的进步，为传统开采的钻石提供了一个可持续的、符合道德规范的替代品。
它们的生产过程非常复杂，但却能生产出几乎与天然钻石无异的高品质钻石。
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