CVD 金刚石，或称化学气相沉积金刚石，是一种通过低压下的化学过程在实验室培育出的金刚石。这种方法包括使用经过特定化学反应的金刚石种子，在基底上沉积一层金刚石。
创建过程：
CVD 工艺以基底（通常是一片薄薄的金刚石）为起点，在基底上沉积金刚石材料。该过程包括将气体（通常是甲烷和氢气的混合物）引入反应室。在低压和高温等受控条件下，气体被电离成等离子状态。在这种状态下，碳原子从气体分子中分离出来，沉积到基底上，以金刚石的形式结合在一起。CVD 方法的变化：
- CVD 方法有多种类型，包括
- 等离子体增强化学气相分解（PECVD）:使用等离子体增强化学反应。
- 微波等离子体化学气相分解（MPCVD）:利用微波能量产生等离子体。
- 低压化学气相分解（LPCVD）:在非常低的压力条件下运行。
超高真空化学气相分解（UHVCVD）:在超高真空环境下进行，可实现精确控制。
特性和生长后处理：
CVD 金刚石的生长速度非常快，这可能会导致出现颗粒、斑点状内含物和棕色色调等不理想的特征。通过生长后处理，如高压高温（HPHT）处理，可以减轻或改善这些缺陷。不过，这种处理可能会带来新的问题，如乳化。通常建议选择未经过此类处理的 CVD 钻石，以获得更自然的外观。与 HPHT 钻石的比较：
虽然 CVD 和 HPHT 都是制造实验室培育钻石的方法，但它们在工艺上有很大不同。HPHT 复制了钻石在极压和极温条件下形成的自然过程，而 CVD 则是在低压条件下进行，并涉及化学反应。
应用和市场：
