PVD 或物理气相沉积是一种薄膜涂层工艺。
它将材料从固态或液态转化为气态。
然后将这种蒸气沉积到基底上形成薄膜。
在各行各业中，这种工艺对于提高材料的表面性能至关重要。
例如，它可以改善机械、光学、化学或电子特性。
5 个关键步骤说明
1.涂层材料的气化
PVD 的第一步是将涂层材料转化为蒸汽。
这可以通过蒸发、分离或溅射等方法实现。
在蒸发过程中，材料会被加热直至变成蒸汽。
溅射则是在高能粒子的轰击下，将原子从固体目标材料中喷射出来。
2.蒸汽的运输
一旦材料变成蒸汽形式，就会通过低压气态或等离子环境进行传输。
这一步骤可确保汽化后的材料在到达基底时不会有明显的损失或污染。
3.在基底上沉积和凝结
气化材料随后在基底表面凝结，形成薄膜。
根据工艺要求，这层薄膜可以是简单的沉积，也可以与活性气体发生化学反应形成化合物。
4.蒸发技术
蒸发技术的选择取决于材料的特性和所需的薄膜特征。
例如，溅射对难以蒸发的材料有效，而蒸发则适用于容易蒸发的材料。
5.运输和反应
传输阶段至关重要，因为它决定了沉积薄膜的纯度和密度。
在某些情况下，这一阶段会引入反应气体，与汽化的材料发生反应，形成化合物，从而增强薄膜的性能。
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