PVD 在工业中的全称是物理气相沉积。
这是一种在固体材料上镀上一层另一种材料薄膜的工艺。
它能增强材料的耐用性、硬度、耐磨性和耐腐蚀性。
什么是物理气相沉积（PVD）？
PVD 是一种多功能薄膜沉积技术。
在此过程中，固体材料在真空环境中气化。
然后将气化的材料沉积到基底上。
该工艺可为材料镀上纯材料或合金成分。
它能增强涂层材料的性能。
PVD 工艺的 3 个主要步骤
1.涂层材料的气化
该工艺始于涂层材料的气化。
这可以通过蒸发、分离或溅射等方法实现。
目的是将固态材料转化为气态。
2.原子或分子的迁移
一旦气化，原子、分子或离子就会在涂层环境中迁移。
这种迁移涉及各种反应和粒子碰撞。
这些对于形成所需的薄膜至关重要。
3.沉积到基底上
气化后的材料通常在较低温度下沉积到基底上。
这一步涉及蒸汽在基底上的凝结。
形成薄膜。
沉积过程至关重要，因为它决定了最终涂层的质量和性能。
3 PVD 的主要应用和优势
工业应用
PVD 涂层在汽车、航空航天和医疗等行业受到高度重视。
它们具有很高的耐用性和耐磨性。
它们还可用于要求高硬度和高强度的环境中。
这包括石油和天然气行业。
耐腐蚀性在海洋和近海工业中至关重要。
数据存储
在数据存储市场，PVD 用于制备磁盘和磁带基板，以保存数据。
它在硬盘驱动器、光盘和闪存的制造中起着至关重要的作用。
它有助于沉积能够存储数字信息的材料。
提高性能
PVD 通过提高薄膜的表面质量来改善产品的性能。
它能形成更光滑的表面，减少粗糙度，提高功能性。
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