物理沉积，特别是物理气相沉积（PVD），是一种将材料从固态转化为气相的过程。
然后将蒸汽沉积到基底上形成薄膜。
PVD 具有高精度和高均匀性的特点，因此被广泛使用。
它包括溅射、热蒸发和电子束蒸发等多种技术。
4 个关键步骤说明
1.材料蒸发
PVD 的第一步是蒸发固体材料。
这可以通过不同的方法实现：
- 溅射： 这包括用高能粒子轰击目标材料，使原子喷射出来并沉积到基底上。
- 热蒸发： 利用热量使材料蒸发，然后在较冷的基底上凝结。
- 电子束蒸发： 使用电子束将材料加热至蒸发点。
2.蒸汽的传输
蒸发后，材料穿过真空室到达基底。
在此过程中，原子或分子可能会与真空室中的任何残留气体发生反应，从而影响沉积薄膜的最终特性。
3.在基底上沉积
气化的材料在基底上凝结，形成薄膜。
这种薄膜的特性，如光学、电气和机械特性，可能与块状材料的特性大不相同。
这一点在医疗领域等应用中尤为重要，因为对薄膜特性的精确控制至关重要。
4.控制和可变性
沉积薄膜的厚度和均匀性可以通过调整温度、压力和沉积过程的持续时间等参数来精确控制。
这样就可以根据特定应用定制薄膜，从医疗设备上的涂层到电子元件中的镀层，不一而足。
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