薄膜沉积是将极薄的材料薄膜应用到基底表面或先前沉积的涂层上以形成层的技术。这种技术被用于电子、光学、数据存储和生物医学等多个行业，以改变工程元件的表面特性。薄膜涂层可以改变玻璃的光学性能、金属的腐蚀性能和半导体的电气性能。
薄膜沉积有不同的技术和方法，包括化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）。化学气相沉积涉及基底表面的气体反应以沉积薄膜，而物理气相沉积涉及通过蒸发或溅射等过程将原子或分子从源材料物理转移到基底。这些技术可以精确控制薄膜的厚度和成分。
薄膜沉积已成为半导体、太阳能电池板、光学设备和数据存储设备等现代技术发展的关键。通过薄膜沉积，可以生产出具有特定性能的涂层，如导电性、耐磨性、耐腐蚀性、硬度等。涂层可以由单层材料或多层材料组成，厚度从埃级到微米不等。
总之，薄膜沉积在提高各种材料和设备的性能和功能方面发挥着至关重要的作用，使其成为许多行业的基础技术。
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