真空镀膜机又称薄膜沉积机，是一种用于在基底表面涂上一层薄而均匀的涂层的设备。该工艺在真空室中进行，以创造一个亚大气压环境。
真空镀膜工艺采用物理或化学气相沉积技术。物理气相沉积（PVD）是一种涂层材料从凝结相到气相再回到凝结相以形成薄膜的相变方法。最常见的 PVD 工艺包括溅射沉积和真空蒸发。
真空镀膜机由几个基本组件组成：
1.真空室和镀膜设备：真空室通常由不锈钢制成，可承受真空环境。它配有法兰接口，是进行镀膜工艺的地方。
2.真空获取部件：这部分负责在真空室中创造和维持真空。它涉及使用各种泵，如机械泵、罗茨泵和分子泵系统，以达到所需的真空度。
3.真空测量部分：这部分包括不同类型的真空计，用于测量真空室内的压力。不同的原理和要求决定了各种真空计的使用，如热电偶、电离计和皮拉尼真空计。
4.电源部分：电源部件为镀膜过程提供必要的电能。真空镀膜机中常用的目标电源包括直流电源、射频电源、脉冲电源和中频电源。
5.工艺气体输入系统：氩气、氪气、氮气、乙炔、甲烷、氢气和氧气等工艺气体通过包括气瓶、减压阀、流量计和电磁阀在内的系统输入真空室。该系统可在镀膜过程中精确控制气体流量。
6.机械传动部分：为确保涂层厚度均匀，基体和涂层材料必须在涂层过程中进行多次旋转。这部分包括工件台、轴承台和工件本身的旋转机构。
7.加热和温度测量：加热元件用于加热基体或涂层材料，以达到所需的温度。热电偶用于测量和控制涂层过程中的温度。
8.离子蒸发和溅射源：这些源用于生成蒸发或溅射形式的涂层材料。多弧电镀通常使用圆形或矩形靶，而磁控溅射则使用矩形或圆柱形溅射阴极。
9.水冷系统：为防止部件过热，真空镀膜机中安装了水冷系统。该系统通常包括冷水塔、冰水机和水泵。
真空镀膜机广泛应用于各行各业，包括餐具、家居用品、建筑材料、电子产品和包装。它们通过提高产品的性能和外观，为产品提供功能和美观方面的优势。真空镀膜机具有吞吐率高、成本效益高、无溶剂工艺效率高和可靠性高等特点。真空镀膜机还可以进行定制，以适应不同尺寸和形状的基材。
了解 KINTEK 真空镀膜的强大功能！我们的真空镀膜机可在任何基底上实现精确、均匀的薄膜沉积。我们的设备采用先进的 PVD 和 CVD 方法，可确保最佳性能和卓越效果。从溅射沉积到真空蒸发，我们的组件可无缝协作，创造出亚大气压环境。与 KINTEK 一起体验镀膜技术的未来。立即联系我们，了解更多信息！
