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真空热蒸发是一种用于在固体材料上形成和生长薄膜的沉积工艺。这种技术因其简单有效而被广泛应用于实验室和工业环境中。
工艺概述：
该工艺首先将目标材料置于极高的温度下，使其升华或沸腾并形成蒸汽。然后通过真空环境将蒸汽输送到基底。到达基底后，蒸汽凝结成固体薄膜。这种沉积循环可重复进行，以增强薄膜的生长和成核。热蒸发真空镀膜方法：
船形蒸发器： 这种蒸发器专门用于蒸发氧化物。舟形蒸发器有利于加热和汽化过程。
热蒸发真空系统：
真空系统对薄膜的质量起着至关重要的作用。镀膜设备所需的基本压力在 10^-7 到 10^-5 毫巴之间。现代系统通常使用涡轮分子泵，可在一小时内将腔室抽真空至所需的基本压力。这些泵通常由旋片泵或其他类型的干泵提供支持。蒸发器上方还使用快门来控制沉积过程，确保层的可重复性。应用和材料：
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