知识 热处理中使用哪种化学品?掌握淬火和渗碳以获得优质金属
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 2 周前

热处理中使用哪种化学品?掌握淬火和渗碳以获得优质金属


热处理中

最常见的化学品是用于快速冷却的液体,如水和油,以及炉内用于有意改变金属表面化学成分的特定气体。虽然“化学品”一词可能暗示着复杂的添加剂,但它通常指的是用于淬火或创建受控气氛的这些基本剂。

需要理解的核心原则是,化学品在热处理中发挥着两个不同的作用:它们要么作为控制冷却速率的介质(淬火),要么作为改变材料本身表面性能的活性剂

热处理中化学品的两个作用

要了解使用哪种化学品,您必须首先明确您的目标。您是想通过快速冷却使整个零件硬化,还是想创建一个坚硬、耐磨的表面层?

作用1:用于快速冷却的淬火介质

淬火是快速冷却热金属零件的过程,以锁定特定的晶体结构,通常是为了增加其硬度。

这里的“化学品”是液体浴,称为淬火剂

  • 水:提供极快的冷却速率。它便宜且有效,但会引起显著的内应力,导致复杂零件变形甚至开裂。
  • 油:冷却速度比水慢得多,更温和。这降低了翘曲和开裂的风险,使其成为许多合金钢的常见选择。
  • 盐水(Brine):冷却速度甚至比普通水更快。盐有助于防止金属表面形成绝缘蒸汽气泡,确保更均匀和强烈的淬火。
  • 聚合物:与水混合的聚合物溶液可以设计成提供各种冷却速率,介于水和油之间。

作用2:用于表面改性的受控气氛

这被称为化学热处理表面硬化。在这里,化学品是一种气体,它改变金属表面的化学成分。

目标是制造一个具有坚硬、耐磨外壳(表层)和较软、较韧内芯的零件。

  • 渗碳:此过程向低碳钢表面添加碳。零件在富含一氧化碳 (CO) 或富碳气体(如甲烷或丙烷)的密封气氛中加热。
  • 渗氮:此过程向钢表面添加氮。零件在含有富氮气体(最常见的是氨 (NH3))的气氛中加热,氨在金属表面分解。
  • 碳氮共渗:顾名思义,此过程向表面添加碳和氮,结合了上述两种工艺的特点,以获得独特的表面性能。

这些气氛处理可防止不良反应,例如碳损失(脱碳)或氧化皮形成(氧化),这些都会削弱零件。

热处理中使用哪种化学品?掌握淬火和渗碳以获得优质金属

理解权衡

化学品的选择绝非没有后果。每个选项都在所需性能和潜在风险之间取得平衡。

淬火风险:硬度与完整性

水或盐水等更具侵略性的淬火剂会产生更高的硬度。然而,这种快速的温度变化会产生巨大的内应力。

这种应力会导致零件翘曲变形,甚至开裂,特别是当它具有尖角或不同厚度时。选择较慢的淬火剂(如油)是一种有意的策略,以牺牲一些潜在硬度为代价来保护零件的完整性。

气氛控制:复杂性和成本

虽然化学热处理提供卓越的表面性能,但它们需要复杂的设备。

密封炉、精确的温度调节和对气体流量的仔细管理至关重要。与简单的加热和淬火操作相比,这增加了复杂性和成本。

为您的目标做出正确选择

您的最终决定必须以组件的预期应用为指导。

  • 如果您的主要重点是在简单形状上实现最大硬度:快速水淬或盐水淬火通常是最直接的方法。
  • 如果您的主要重点是平衡硬度与尺寸稳定性:对于大多数合金钢零件,在油中进行较慢、较温和的淬火是标准做法。
  • 如果您的主要重点是创建高度耐磨的表面:渗碳或渗氮等化学热处理工艺对于从根本上改变表面化学成分是必要的。

最终,选择正确的化学品在于确定您是需要通过冷却来管理热能,还是需要修改材料的表面成分。

总结表:

作用 主要化学品 主要目的
淬火介质 水、油、盐水、聚合物 控制冷却速率以获得硬度
气氛气体 甲烷、氨、一氧化碳 改变表面化学成分以提高耐磨性

需要帮助为您的材料选择合适的热处理工艺吗? KINTEK 专注于提供有效的淬火和受控气氛处理所需的精确实验室设备和耗材。我们的专业知识确保您为实验室的金属部件实现硬度、耐用性和尺寸稳定性的完美平衡。立即联系我们的专家,优化您的热处理结果!

图解指南

热处理中使用哪种化学品?掌握淬火和渗碳以获得优质金属 图解指南

相关产品

大家还在问

相关产品

1200℃ 可控气氛炉 氮气保护炉

1200℃ 可控气氛炉 氮气保护炉

了解我们的KT-12A Pro可控气氛炉——高精度、重型真空室、多功能智能触摸屏控制器,以及高达1200°C的出色温度均匀性。非常适合实验室和工业应用。

1400℃氮气和惰性气氛可控气氛炉

1400℃氮气和惰性气氛可控气氛炉

KT-14A可控气氛炉可实现精确的热处理。它采用智能控制器真空密封,最高可达1400℃,非常适合实验室和工业应用。

倾斜旋转等离子体增强化学气相沉积 PECVD 设备管式炉

倾斜旋转等离子体增强化学气相沉积 PECVD 设备管式炉

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。非常适合 LED、功率半导体、MEMS 等。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

化学气相沉积CVD设备系统腔体滑动PECVD管式炉带液体气化器PECVD设备

化学气相沉积CVD设备系统腔体滑动PECVD管式炉带液体气化器PECVD设备

KT-PE12 滑动PECVD系统:宽功率范围,可编程温度控制,带滑动系统的快速加热/冷却,MFC质量流量控制和真空泵。

钼钨钽特形蒸发舟

钼钨钽特形蒸发舟

钨蒸发舟是真空镀膜行业以及烧结炉或真空退火的理想选择。我们提供耐用、坚固的钨蒸发舟,具有长运行寿命,并能确保熔融金属平稳、均匀地扩散。

实验室应用圆柱形压制模具

实验室应用圆柱形压制模具

使用各种尺寸的圆柱形压制模具,高效地成型和测试大多数样品。采用日本高速钢制造,使用寿命长,尺寸可定制。

用于气阀应用的定制PTFE特氟龙零件制造商

用于气阀应用的定制PTFE特氟龙零件制造商

用于气液采样的PTFE小型气阀和用于样品收集的采样袋。

全自动实验室热压机

全自动实验室热压机

用于实验室的精密全自动热压机——是材料测试、复合材料和研发的理想选择。可定制、安全、高效。立即联系 KINTEK!

实验室用液压隔膜压滤机

实验室用液压隔膜压滤机

液压隔膜实验室压滤机是一种实验室规模的压滤机,占地面积小,压榨力强。

真空密封连续工作旋转管式炉 旋转管炉

真空密封连续工作旋转管式炉 旋转管炉

使用我们的真空密封旋转管炉体验高效的材料处理。非常适合实验或工业生产,配备可选功能,可实现受控进料和优化结果。立即订购。

实验室内部橡胶混合机 橡胶捏合机 用于混合和捏合

实验室内部橡胶混合机 橡胶捏合机 用于混合和捏合

实验室内部橡胶混合机适用于塑料、橡胶、合成橡胶、热熔胶等各种化工原料以及各种低粘度材料的混合、捏合和分散。

分体式真空站化学气相沉积系统设备管式炉

分体式真空站化学气相沉积系统设备管式炉

高效分体式真空站CVD炉,便于样品检查和快速冷却。最高温度1200℃,配备精确的MFC质量流量计控制。

实验室和工业用无油隔膜真空泵

实验室和工业用无油隔膜真空泵

实验室用无油隔膜真空泵:清洁、可靠、耐化学腐蚀。非常适合过滤、固相萃取和旋转蒸发。免维护运行。

电解电化学气体扩散液流反应池

电解电化学气体扩散液流反应池

正在寻找高品质的气体扩散电解池?我们的液流反应池具有出色的耐腐蚀性和完整的规格,并提供定制选项以满足您的需求。立即联系我们!

微波等离子体化学气相沉积MPCVD设备系统反应器,用于实验室和金刚石生长

微波等离子体化学气相沉积MPCVD设备系统反应器,用于实验室和金刚石生长

使用我们的钟罩谐振腔MPCVD设备,实现高质量金刚石薄膜的实验室和金刚石生长。了解微波等离子体化学气相沉积如何利用碳气和等离子体生长金刚石。

定制化高压反应釜,适用于先进的科学和工业应用

定制化高压反应釜,适用于先进的科学和工业应用

这款实验室规模的高压反应釜是一款高性能的压力容器,专为要求严苛的研发环境中的精确度和安全性而设计。

客户定制多功能CVD管式炉化学气相沉积腔体系统设备

客户定制多功能CVD管式炉化学气相沉积腔体系统设备

获取您专属的KT-CTF16客户定制多功能CVD炉。可定制滑动、旋转和倾斜功能,实现精确反应。立即订购!

RF PECVD 系统 射频等离子体增强化学气相沉积 RF PECVD

RF PECVD 系统 射频等离子体增强化学气相沉积 RF PECVD

RF-PECVD 是“射频等离子体增强化学气相沉积”的缩写。它在锗和硅衬底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。它用于 3-12 微米的红外波长范围。

实验室用迷你不锈钢高压高压釜反应器

实验室用迷你不锈钢高压高压釜反应器

迷你不锈钢高压反应器——是医药、化工和科学研究行业的理想选择。程序化加热温度和搅拌速度,最高压力可达22Mpa。

水热合成高压实验室高压釜反应器

水热合成高压实验室高压釜反应器

了解水热合成反应器的应用——一种用于化学实验室的小型耐腐蚀反应器。以安全可靠的方式快速消化不溶性物质。立即了解更多。


留下您的留言