知识 等离子氮化层有多厚?(解释 5 个关键因素)
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更新于 1个月前

等离子氮化层有多厚?(解释 5 个关键因素)

等离子氮化层的厚度会因处理材料的类型、氮化温度和处理时间等不同因素而变化。

等离子氮化层有多厚?(5 个关键因素解释)

等离子氮化层有多厚?(解释 5 个关键因素)

1.材料类型

被处理材料的类型对等离子氮化层的厚度有很大影响。

2.氮化温度

氮化温度在决定扩散层深度方面起着至关重要的作用。

3.处理时间

在给定温度下,渗氮层深度的增加近似于时间的平方根。这表明处理时间越长,渗氮层渗透得越深。

4.等离子功率

等离子功率或电流密度是影响氮化层厚度的另一个工艺变量。等离子功率是表面积的函数,可影响复合层的形成和厚度。

5.替代工艺:等离子软氮化

等离子渗氮是等离子渗氮的替代工艺,可获得特别厚的复合层。渗氮层的深度会因所用材料、处理温度和处理时间的不同而变化。

总之,等离子氮化层的厚度会因材料类型、氮化温度、处理时间和等离子功率等因素而变化。不过,根据所提供的参考资料,等离子氮化形成的扩散层厚度约为 80 µm。

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