热蒸发法因其众多优点而成为沉积薄膜的常用方法。
热蒸发法的 10 大优势
1.与各种材料兼容
热蒸发既可沉积金属，也可沉积非金属，如铝、铬、金和铟。
2.适用于低熔点材料
这种方法适用于低熔点材料，包括含汞或镓的合金。
3.均匀性
使用行星基底夹具和均匀掩膜，热蒸发可确保极佳的均匀性。
4.高沉积率
热蒸发具有较高的沉积速率，通常低于每秒 50 埃。
5.良好的方向性
蒸汽云直接朝向基底，确保沉积更均匀、更可控。
6.成本效益高
与其他物理气相沉积（PVD）方法相比，热蒸发的成本相对较低。
7.简单
在 PVD 方法中，热蒸发是最不复杂的工艺，因此更易于设置、操作和维护。
8.与离子辅助源兼容
热蒸发与离子辅助源兼容，可通过增加密度和减少杂质来提高薄膜质量。
9.多功能性
它用途广泛，效率高，适用于各种工业应用。
10.高效
该方法大大缩短了生产时间，非常适合对产量要求较高的工业应用。
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