化学气相沉积的组成部分包括
1.气体输送系统：它负责将前驱体气体输送到反应器腔室。化学气相沉积中使用的前驱体必须具有足够的挥发性和稳定性，以便输送到反应器中。
2.反应室：这是进行 CVD 过程的地方。其设计目的是为薄膜或涂层的沉积提供必要的条件。反应室可能包括加热元件或等离子源等功能，以促进所需的反应。
3.能量源：用于提供发生化学反应所需的能量。它可以是热能、等离子体或其他能源的形式，具体取决于特定的 CVD 工艺。
4.真空系统：真空系统用于在反应腔内创造和维持所需的压力条件。这对于控制气体流量和确保沉积薄膜的质量非常重要。
5.排气系统：该系统负责清除反应腔内的副产品和未反应气体。它有助于保持反应腔内的清洁和受控环境。
CVD 系统中可能存在的其他组件包括基片装载/卸载系统、用于监测和控制工艺参数的工艺自动控制系统，以及用于处理沉积过程中产生的废气的废气处理系统。
总之，CVD 系统的各个组件相互配合，实现了前驱气体的传输、薄膜或涂层在基底上的沉积以及副产品和废气的清除。
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