培育实验室钻石需要创造条件，模仿地球深处钻石的自然形成过程。
主要使用两种方法：高压高温法（HPHT）和化学气相沉积法（CVD）。
高压高温（HPHT）法
高压高温法是将一颗小钻石种子置于极高的压力和温度下。
种子被放置在高压设备中。
其温度范围为 1300 至 1600 摄氏度。
压力超过每平方英寸 870,000 磅。
种子周围环绕着碳源，通常是高度精炼的石墨。
由于高温高压，石墨熔化并在种子周围形成层。
当设备冷却时，碳会凝固，形成钻石。
这一过程需要精确控制。
通常使用立方压机或带式压机进行。
立方体压力机使用活塞从不同方向施加压力。
带式压机使用两个强大的活塞从相反方向施加相同的压力。
化学气相沉积（CVD）法
与 HPHT 法相比，CVD 法的压力较低，但仍需要高温。
金刚石种子被放置在充满富碳气体（如甲烷）的腔室中。
使用微波或激光对气体进行电离。
这将分解气体分子，使碳原子附着在金刚石种子上。
这一过程包括在 700°C 至 1300°C 的温度下逐层生长金刚石。
这种方法一般比较耗时，大约需要 4 到 6 周。
它需要定期去除石墨层，以促进更大钻石的生长。
精密设备和专家监督
这两种方法都需要先进的设备和专家监督。
必须精确控制条件，以促进高质量钻石的生长。
在 HPHT 和 CVD 之间做出选择通常取决于所需的钻石特性和实验室的具体能力。
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