石墨烯的常压化学气相沉积（APCVD）是一种在常压下直接在基底上合成高质量石墨烯薄膜的方法。这一过程包括在高温下在金属催化剂上分解碳氢化合物气体，从而形成石墨烯层。
答案摘要：
常压化学气相沉积（APCVD）是一种用于合成石墨烯的技术，在高温和常压下，碳氢化合物气体在金属基底上分解。这种方法可以生产出适合各种应用的大面积、高质量石墨烯薄膜。
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详细说明：
- 工艺概述：
- 在 APCVD 中，铜、钴或镍等金属基板被置于反应室中。
- 反应室中通入甲烷或乙烯等碳氢化合物气体。
- 反应室被加热到通常为 800 至 1050 °C 的温度，使碳氢化合物气体分解成碳原子。
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然后，这些碳原子与金属基底表面结合，形成石墨烯层。
- APCVD 的优势：大面积生产：
- APCVD 可大面积生产石墨烯薄膜，这对许多工业应用至关重要。质量控制：
- 可通过调整气体流速、温度和时间等工艺参数来控制石墨烯层的厚度和质量。直接合成：
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APCVD 可在基底上直接合成石墨烯，这对电子和光电等特定应用非常有利。
- 金属基底的作用：
- 金属基底可作为催化剂，降低碳氢化合物气体分解的能量障碍。
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它们还会影响石墨烯的沉积机制，影响其质量和均匀性。
- 物理条件和载气：
- APCVD 中的大气压力有助于保持稳定的反应环境，但为了获得更好的均匀性和减少不必要的反应，通常选择较低的压力。
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氢气和氩气等载气可增强表面反应，提高石墨烯沉积速度。
- 应用和前景：
- APCVD 生长的石墨烯应用广泛，包括电子晶体管、透明导体和腐蚀涂层。
APCVD 技术的发展仍在继续，重点是提高石墨烯生产的质量和可扩展性，以便更广泛地应用于工业领域。更正和审查：
