PVD 涂层工艺是一种真空沉积技术。
它将固体材料蒸发，然后冷凝到基材上，形成一层薄而耐用的薄膜。
该工艺可增强基材的性能，如耐磨性、硬度和美观性。
它不需要额外的机加工或热处理。
什么是 PVD 涂层工艺？需要了解的 5 个关键步骤
1.目标材料的气化
固态材料（称为靶材）被加热直至汽化。
这可以通过蒸发或溅射等各种方法实现。
2.沉积到基底上
气化后的材料会凝结在工件（即被镀膜的基底）表面。
此过程在真空环境中进行，以确保涂层的纯度和均匀性。
3.形成薄膜
形成的薄膜通常很薄，厚度从几纳米到几微米不等。
尽管薄膜很薄，但却能显著改善基底的性能。
4.蒸发技术
蒸发和溅射是蒸发目标材料的两种常见方法。
在蒸发过程中，使用阴极电弧或电子束源等技术将目标材料加热到沸点。
在溅射法中，用高能粒子轰击目标材料，使原子从其表面喷射出来。
5.真空环境
该过程在真空中进行，以防止大气中的气体污染，并对沉积过程进行精确控制。
真空还能确保涂层不含杂质，从而提高涂层的耐久性和使用寿命。
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