Pvd与电镀之间有什么区别？为您的应用选择正确的涂层

从本质上讲，PVD和电镀之间的区别在于物理与化学的问题。物理气相沉积（PVD）是一个干燥的真空过程，它通过物理方式将材料的薄膜逐个原子地沉积到表面上。传统的电镀（或电化学镀）是一个湿法化学过程，它利用液体槽中的电流在导电部件上形成一层金属。

PVD和电镀之间的核心选择是一种权衡。您必须在PVD卓越的硬度和材料通用性与电镀均匀涂覆复杂形状并获得经典金属光洁度的能力之间做出选择。

每种工艺的基本工作原理

要了解哪种方法适合您的应用，您必须首先掌握涂层施加方式的基本区别。

PVD在高真空室中进行。通过物理过程（例如溅射——用离子轰击）将固体源材料气化。

这种气化的材料然后通过真空直线传输，并在目标物体上凝结，形成一层非常薄、致密且附着力强的薄膜。

由于材料是直线传输的，PVD被称为“视线”过程。任何未直接暴露于蒸汽源的表面都不会被涂覆。

电镀发生在液体化学溶液中。在最常见的方法——电镀中，待涂覆的物体浸没在槽中并充当阴极（负极）。

电流通过溶液，导致溶解的金属离子迁移并结合到物体表面，有效地“生长”出一层金属层。

由于物体是完全浸没的，这是一个各向同性过程。涂层在液体可以接触到的所有表面上均匀形成，包括复杂的内部通道和孔洞。

工艺上的差异导致了耐用性、外观和适用用例方面的巨大差异。

PVD涂层比大多数电镀饰面更硬、更耐用、更耐腐蚀。PVD工艺中产生的原子键非常牢固，使其具有很强的抗碎裂、剥落和磨损能力。

电镀虽然具有保护作用，但它是一层较软的层，更容易被刮伤，如果表面处理或工艺存在缺陷，可能会剥落。

这是电镀的主要优势。其各向同性特性确保了对具有复杂几何形状、深凹槽或内部通道的部件实现完美均匀的涂层。

PVD的视线特性使得均匀涂覆复杂形状具有挑战性，除非在工艺过程中使用复杂的夹具来旋转部件。

PVD更通用。它是一种低温工艺，可用于涂覆各种材料，包括塑料、玻璃和热敏金属，以及标准钢和合金。

电镀通常要求基材具有导电性，这限制了其在金属或经过特殊处理的非金属上的应用。

PVD提供各种现代、装饰性的饰面（例如，哑光黑、金色、玫瑰金、青铜色，甚至是虹彩的彩虹色），并且非常稳定。

电镀擅长生产厚实、明亮、经典的金属饰面，例如镜面铬、镍或银。

没有一种方法是普遍优越的；为您的目标选择错误的方法可能导致失败。

主要的缺点是“视线”限制。如果没有仔细旋转部件，复杂部件的覆盖可能会不均匀或不完整，从而导致磨损和腐蚀的薄弱点。这种增加的复杂性可能会增加成本。

传统电镀最令人关注的是其环境影响。该过程通常使用有害化学物质（如六价铬），并产生需要小心处理的有毒废物。此外，与PVD相比，导致剥落或脱落的附着力失效是一种更常见的失效模式。

您应用的特定要求应决定您的选择。

了解核心机制——物理薄膜与化学槽——是根据您的特定需求选择正确涂层的关键。