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CVD（化学气相沉积）工艺的高温通常在 600 至 1100°C 之间。不过，在热 CVD 的情况下，表面温度应保持在 800 至 1000°C 之间。需要这些高温来促进化学反应和所需材料在基底上的沉积。
值得注意的是，CVD 过程中的高温会对基底材料产生显著的热效应。例如，钢可能会被加热到奥氏体相区，可能需要额外的热处理来优化基底材料的性能。
CVD 还有一些变体，如等离子体辅助 CVD (PACVD)，它利用低压气体中的放电来加速 CVD 反应。这可以将反应温度降低几百摄氏度。
总的来说，CVD 工艺的温度要求取决于具体应用和沉积材料的性质。保持适当的温度范围对于获得理想的涂层性能和附着强度至关重要。
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