真空炉的压力可根据运行的材料和工艺而变化。
真空热处理的典型分压设置范围为 65 - 200 帕（500 - 1500 微米）。
不过，如果需要，设定值可以低至 13 帕（100 微米）或高至 665 帕（5000 微米）。
压力会随着温度的升高和污染物的挥发而增加。
在分压工艺中，真空控制通常保持在 500 微米左右，在高真空工艺中，真空控制通常保持在 10-4 TORR 以下。
了解真空炉压力的 5 个要点
1.压力变化
真空炉的压力会因运行的材料和过程而变化。
2.典型压力设置
真空热处理的典型分压设置范围为 65 - 200 帕（500 - 1500 微米）。
3.压力范围
如果需要，设定值可低至 13 帕（100 微米）或高至 665 帕（5000 微米）。
4.压力随温度升高而增加
压力随温度升高和污染物挥发而增加。
5.真空控制
在分压工艺中，真空控制通常保持在 500 微米左右，在高真空工艺中，真空控制通常保持在 10-4 TORR 以下。
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