薄膜形成是在基底上沉积一层材料的过程。
这层材料的厚度通常从几纳米到几微米不等。
这一过程在各种应用中都至关重要，包括家用镜子、电子设备和太阳能电池的生产。
薄膜的形成涉及几个关键步骤，可通过各种沉积技术实现。
什么是薄膜形成过程？4 个关键步骤解析
1.创造沉积物种
这包括准备基底和目标材料。
基底是沉积薄膜的基础材料。
目标材料是形成薄膜的物质。
基底和目标材料的选择取决于最终产品所需的特性。
2.2. 物种运输
沉积物质通过蒸发、溅射、化学气相沉积（CVD）或旋涂等技术从靶材传输到基底。
在蒸发过程中，目标材料被加热直至变成蒸汽，然后在基底上凝结。
在溅射法中，使用高能等离子体将原子从目标材料中喷射出来，然后到达基底。
化学气相沉积是通过气态前驱体的化学反应将材料沉积在基底上。
旋转镀膜是指在涂抹液态前驱体的同时旋转基底，然后在基底干燥时形成薄膜。
3.生长和成核
目标材料到达基底后，会经历成核和生长过程。
来自目标材料的原子要么立即从基底反射出来，要么凝结在基底表面。
凝结的可能性受活化能、靶材与基底之间的结合能以及粘附系数等因素的影响。
凝结原子与撞击原子之比称为粘附系数。
随着更多原子的凝结，它们开始形成一层连续的薄膜，这层薄膜会继续增长，直到达到所需的厚度。
4.修正与回顾
所选择的特定沉积技术会极大地影响薄膜的特性，如厚度、均匀性和对基底的附着力。
值得注意的是，沉积过程中的环境，包括温度、压力和气体成分等因素，也会影响薄膜的质量。
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