知识 什么是真空消耗电极熔化过程?(7 个步骤详解)
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 2个月前

什么是真空消耗电极熔化过程?(7 个步骤详解)

真空耗材电极熔化(VAR)是一种在真空条件下通过电磁感应熔化金属的工艺。

这种工艺特别适用于对氧气和氮气具有亲和性的金属和合金,因为这些金属和合金无法在空气中熔化。

7 个步骤说明

什么是真空消耗电极熔化过程?(7 个步骤详解)

1.装载电极

将待熔化的电极装入熔炉。

对于特种钢和超合金,电极之前是在空气或真空中浇铸的。

对于钛等活性金属,电极由压实海绵和/或废料制成,或由等离子或电子束等炉床熔化工艺制成。

2.真空容器设置

活动炉头和固定熔化站这两个主要的机械组件共同构成了进行熔化的真空容器。

活动炉头是真空容器的上部,用于支撑和控制电极的移动。

固定熔化站是容器的下半部分,由一个可移动的铜坩埚和一个固定的不锈钢水套组成。

3.建立真空

将电极夹在滑枕组件上后,滑枕将电极抬起,同时炉头下降,在坩埚顶部形成真空密封。

建立真空后,启动直流电源。

4.电弧熔化

控制系统自动在消耗电极(阴极 -)和坩埚底座(阳极 +)之间产生大电流电弧,迅速形成熔化金属池。

熔化电极与金属池之间的间隙(电弧间隙)得到精确保持,熔化率得到控制。

5.真空优势

通过电弧间隙落下的金属液滴暴露在真空环境和电弧区的极端温度下。

这将导致溶解气体的去除、杂散元素的汽化以及氧化物清洁度的提高。

水冷坩埚允许定向凝固,防止宏观偏析,减少微观偏析。

6.受控凝固

由金属液滴形成的金属熔池可定向凝固。

当熔化率和电弧间隙得到正确控制时,这种定向凝固可防止偏析并提高铸锭的材料性能。

7.逐步降低功率

在工艺接近尾声时,功率逐渐降低,以提供可控的热顶,最大限度地提高有用产品的产量。

继续探索,咨询我们的专家

您正在为真空耗材电极熔化工艺寻找高质量的实验室设备吗?

KINTEK 是您的最佳选择!

我们最先进的设备旨在提供精确的温度控制、去除溶解气体并改善材料性能。

利用我们的真空感应熔化技术,您可以实现接近的成分公差、高可靠性和高生产率。

无论您是从事航空航天工业还是铸造复杂的阀门,KINTEK 都能为您提供所需的解决方案。

立即联系我们,了解更多产品信息,让您的熔炼工艺更上一层楼!

相关产品

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

了解采用高熔点电极的非消耗性真空电弧炉的优点。体积小、易操作、环保。是难熔金属和碳化物实验室研究的理想之选。

真空悬浮感应熔化炉 电弧熔化炉

真空悬浮感应熔化炉 电弧熔化炉

使用我们的真空悬浮熔炼炉体验精确熔炼。采用先进技术进行有效熔炼,是高熔点金属或合金的理想之选。立即订购,获得高质量的结果。

真空感应熔化炉 电弧熔化炉

真空感应熔化炉 电弧熔化炉

利用我们的真空感应熔炼炉获得精确的合金成分。是航空航天、核能和电子工业的理想之选。立即订购,有效熔炼和铸造金属与合金。

真空电弧炉 感应熔化炉

真空电弧炉 感应熔化炉

了解真空电弧炉在熔化活性金属和难熔金属方面的强大功能。高速、脱气效果显著、无污染。立即了解更多信息!

真空感应熔化纺丝系统电弧熔化炉

真空感应熔化纺丝系统电弧熔化炉

使用我们的真空熔融纺丝系统,轻松开发可蜕变材料。非常适合非晶和微晶材料的研究和实验工作。立即订购,获得有效成果。

真空钎焊炉

真空钎焊炉

真空钎焊炉是一种用于钎焊的工业炉,钎焊是一种金属加工工艺,使用熔化温度低于基体金属的填充金属将两块金属连接起来。真空钎焊炉通常用于要求连接牢固、清洁的高质量应用场合。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

电子束蒸发涂层钨坩埚/钼坩埚

钨和钼坩埚具有优异的热性能和机械性能,常用于电子束蒸发工艺。

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

等离子体增强蒸发沉积 PECVD 涂层机

使用 PECVD 涂层设备升级您的涂层工艺。是 LED、功率半导体、MEMS 等领域的理想之选。在低温下沉积高质量的固体薄膜。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

真空热压炉

真空热压炉

了解真空热压炉的优势!在高温高压下生产致密难熔金属和化合物、陶瓷以及复合材料。

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚

电子束蒸发涂层无氧铜坩埚可实现各种材料的精确共沉积。其可控温度和水冷设计可确保纯净高效的薄膜沉积。

电子枪光束坩埚

电子枪光束坩埚

在电子枪光束蒸发中,坩埚是一种容器或源支架,用于盛放和蒸发要沉积到基底上的材料。

升降/倾斜玻璃反应器

升降/倾斜玻璃反应器

使用我们的升降/倾斜玻璃反应釜系统,可增强您的合成反应、蒸馏和过滤过程。我们的系统具有广泛的温度适应性、精确的搅拌控制和耐溶剂阀门,可确保获得稳定纯净的结果。立即了解我们的特色和可选功能!

客户定制的多功能 CVD 管式炉 CVD 机器

客户定制的多功能 CVD 管式炉 CVD 机器

KT-CTF16 客户定制多功能炉是您的专属 CVD 炉。可定制滑动、旋转和倾斜功能,用于精确反应。立即订购!

真空管热压炉

真空管热压炉

利用真空管式热压炉降低成型压力并缩短烧结时间,适用于高密度、细粒度材料。是难熔金属的理想选择。

多加热区 CVD 管式炉 CVD 机器

多加热区 CVD 管式炉 CVD 机器

KT-CTF14 多加热区 CVD 炉 - 适用于高级应用的精确温度控制和气体流量。最高温度可达 1200℃,配备 4 通道 MFC 质量流量计和 7" TFT 触摸屏控制器。

立式管式炉

立式管式炉

使用我们的立式管式炉提升您的实验水平。多功能设计可在各种环境和热处理应用下运行。立即订购,获得精确结果!

旋片真空泵

旋片真空泵

通过 UL 认证的旋片真空泵可实现高速、稳定的真空抽气。两档气镇阀和双重油保护。易于维护和修理。

真空压力烧结炉

真空压力烧结炉

真空压力烧结炉专为金属和陶瓷烧结中的高温热压应用而设计。其先进的功能可确保精确的温度控制、可靠的压力维持以及无缝操作的坚固设计。

0.5-4L 旋转蒸发器,用于萃取、分子烹饪美食和实验室

0.5-4L 旋转蒸发器,用于萃取、分子烹饪美食和实验室

使用 0.5-4 升旋转蒸发仪高效分离 "低沸点 "溶剂。采用高级材料、Telfon+Viton 真空密封和 PTFE 阀门设计,可实现无污染操作。


留下您的留言