知识 什么是 VAR 熔化过程?
作者头像

技术团队 · Kintek Solution

更新于 1周前

什么是 VAR 熔化过程?

VAR 熔炼工艺(或称真空电弧重熔)是一种复杂的冶金技术,用于精炼和均匀化合金,尤其适用于航天、航空和生物医学工程等高需求应用领域。该工艺包括在高真空下使用电弧连续熔化易耗电极,从而可以精确控制合金的微观结构和纯度。

工艺说明:

  1. 准备电极: 首先将待重熔的合金制成圆柱形,即消耗电极。这通常是通过真空感应熔炼(VIM)或钢包精炼完成的。

  2. 设置坩埚: 将电极放入保持冶金真空(0.001 至 0.1 mmHg 或 0.1 至 13.3 Pa)的坩埚中。在坩埚底部放置少量相同的合金,以启动熔化过程。

  3. 启动电弧: 在电极和坩埚中的基底材料之间通以几千安培的直流电,以产生电弧。电弧产生高热,熔化电极尖端。

  4. 连续熔化和凝固: 当电极熔化时,机械柱塞会逐渐降低电极,以保持电弧。坩埚通常由铜制成,周围有水套冷却熔体并控制凝固速度。这种受控冷却对于获得理想的微观结构和均匀性至关重要。

  5. 控制参数: 该工艺在很大程度上取决于冷却速率、电极间隙和电流等参数。VAR 炉中集成了先进的计算机控制,可自动优化这些参数,从而提高最终产品的质量和可重复性。

VAR 的优点

  • 去除气体: VAR 能有效去除氢气、氮气和二氧化碳等溶解气体,提高合金的纯度。
  • 减少不需要的元素: 它能减少高蒸汽压的微量元素,进一步提高合金的质量。
  • 提高氧化物清洁度: 该工艺可提高合金中氧化物的清洁度。
  • 定向凝固: 它允许从下到上定向凝固,减少宏观和微观偏析。
  • 能源效率: VAR 是最节能的重熔工艺之一。
  • 无陶瓷熔化: 该工艺不涉及任何可能引入杂质的陶瓷材料。

应用和改进:

VAR 特别适用于加工镍、钛和特殊钢等需要高纯度和特殊微结构的金属。VAR 炉设计的不断改进,特别是计算机控制和调节方面的改进,使得工艺更加自动化和精确化,从而确保生产出具有可控凝固结构和优异清洁度的均匀铸锭。

这种细致的工艺确保了最终产品的高质量,不存在中心线气孔和偏析等缺陷,是材料完整性至关重要的关键应用的理想选择。

相关产品

真空感应熔化纺丝系统电弧熔化炉

真空感应熔化纺丝系统电弧熔化炉

使用我们的真空熔融纺丝系统,轻松开发可蜕变材料。非常适合非晶和微晶材料的研究和实验工作。立即订购,获得有效成果。

真空管热压炉

真空管热压炉

利用真空管式热压炉降低成型压力并缩短烧结时间,适用于高密度、细粒度材料。是难熔金属的理想选择。

真空悬浮感应熔化炉 电弧熔化炉

真空悬浮感应熔化炉 电弧熔化炉

使用我们的真空悬浮熔炼炉体验精确熔炼。采用先进技术进行有效熔炼,是高熔点金属或合金的理想之选。立即订购,获得高质量的结果。

真空热压炉

真空热压炉

了解真空热压炉的优势!在高温高压下生产致密难熔金属和化合物、陶瓷以及复合材料。

钼 真空炉

钼 真空炉

了解带隔热罩的高配置钼真空炉的优势。非常适合蓝宝石晶体生长和热处理等高纯度真空环境。

真空感应熔化炉 电弧熔化炉

真空感应熔化炉 电弧熔化炉

利用我们的真空感应熔炼炉获得精确的合金成分。是航空航天、核能和电子工业的理想之选。立即订购,有效熔炼和铸造金属与合金。

真空电弧炉 感应熔化炉

真空电弧炉 感应熔化炉

了解真空电弧炉在熔化活性金属和难熔金属方面的强大功能。高速、脱气效果显著、无污染。立即了解更多信息!

真空压力烧结炉

真空压力烧结炉

真空压力烧结炉专为金属和陶瓷烧结中的高温热压应用而设计。其先进的功能可确保精确的温度控制、可靠的压力维持以及无缝操作的坚固设计。

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

非消耗性真空电弧炉 感应熔化炉

了解采用高熔点电极的非消耗性真空电弧炉的优点。体积小、易操作、环保。是难熔金属和碳化物实验室研究的理想之选。

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室和金刚石生长的钟罩式谐振器 MPCVD 金刚石设备

使用我们专为实验室和金刚石生长设计的 Bell-jar Resonator MPCVD 设备获得高质量的金刚石薄膜。了解微波等离子体化学气相沉积如何利用碳气和等离子体生长金刚石。

真空钎焊炉

真空钎焊炉

真空钎焊炉是一种用于钎焊的工业炉,钎焊是一种金属加工工艺,使用熔化温度低于基体金属的填充金属将两块金属连接起来。真空钎焊炉通常用于要求连接牢固、清洁的高质量应用场合。

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

用于实验室金刚石生长的圆柱形谐振器 MPCVD 金刚石设备

了解圆柱形谐振器 MPCVD 设备,这是一种微波等离子体化学气相沉积方法,用于在珠宝和半导体行业中生长钻石宝石和薄膜。了解其与传统 HPHT 方法相比的成本效益优势。

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

射频等离子体增强化学气相沉积系统 射频等离子体增强化学气相沉积系统

RF-PECVD 是 "射频等离子体增强化学气相沉积 "的缩写。它能在锗和硅基底上沉积 DLC(类金刚石碳膜)。其波长范围为 3-12um 红外线。

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

拉丝模纳米金刚石涂层 HFCVD 设备

纳米金刚石复合涂层拉丝模以硬质合金(WC-Co)为基体,采用化学气相法(简称 CVD 法)在模具内孔表面涂覆传统金刚石和纳米金刚石复合涂层。


留下您的留言