真空炉专为真空热处理而设计，炉膛内没有空气，可以防止氧化，确保最佳效果。真空炉的主要用途是促进退火、陶瓷和金属烧结、钎焊和其他热处理等工艺，并将污染降到最低，保持最大的一致性。
炉内的真空环境消除了空气和气体的存在，从而防止了氧化和通过对流进行的热传导。没有空气或其他气体也消除了污染源，确保处理过的产品保持清洁、无杂质。
真空炉用途广泛，可用于生产行业和研究实验室。真空炉结构坚固，能够在受控气氛中提供快速、高度一致的加热，因此适用于重型工业和实验室应用。
使用真空炉的一些好处包括：在 1100-1500°C （2000-2800°F）范围内温度均匀；在小范围内精确控温；产品受碳、氧和其他气体的污染小；产品冷却（淬火）快；可通过计算机控制实现冶金重复性。
总之，真空炉的目的是为各种热处理工艺提供一个可控的非氧化环境，确保以最小的污染和出色的温度控制获得高质量的结果。
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