金属上的 PVD 工艺是将涂层材料中的原子、离子或分子物理沉积到基体上，通常可形成厚度为 1 至 10 微米的薄膜。该工艺在减压可控气氛室中进行，可用于直接沉积，也可用于涂层材料与反应气体之间发生化学反应的反应式沉积。
PVD 工艺概述：
- 沉积技术： PVD 包括离子镀、离子注入、溅射和激光表面合金化等方法。每种方法都涉及生产金属和等离子体的不同过程。
- 活性气体： 氮气、氧气或甲烷等活性气体通常与等离子体轰击结合使用，以确保镀层致密坚硬。
- 无化学反应： 与化学气相沉积不同，PVD 在沉积过程中不涉及化学反应。相反，气化材料会在基底上凝结，形成所需的涂层。
详细说明：
- 离子镀： 这种方法使用等离子体来沉积薄膜。该过程包括通过热力学或机电过程激发前驱体材料，使其释放出特定的分子蒸汽，然后沉积到基底上。
- 溅射沉积： 溅射是另一种常见的 PVD 技术，它通常在真空中用高能粒子轰击目标材料表面，从而喷射出目标材料原子。这些喷射出的原子随后沉积到基底上。
- 真空热蒸发： 这种方法是将待沉积材料加热至蒸发，然后在真空环境中凝结在基底上。
- 电子束沉积： 作为 PVD 的一种特殊形式，这种技术使用电子束将材料加热至蒸发点，然后沉积到基底上。
安全易用：
- 与化学沉积法相比，PVD 工艺通常更安全、更易于操作，因为它不依赖化学物质。在 PVD 过程中，金属转变为气体需要高温，但并不需要加热基材本身，因此过程更可控，危险性更低。
美学和功能优势：
- PVD 涂层具有美学和功能上的双重优势。通过调整时间、热量、牺牲金属和惰性气体等参数，可对该工艺进行操作，以产生特定的颜色和表面厚度。这使得 PVD 成为金属加工中的一种多功能技术，它将艺术与科学相结合，增强了金属表面的性能和外观。
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